| 主权项 |
1.一种可作为光起始剂之式(II)有机化合物, 其中: R1是苯基或基,其中苯基和基是未经取代的,或 由CN,NR8R9,N3,NO2,CF3,SR10或OR10取代一次或多次的,或R1 是嗯基,氟烯基或硫代夹氧基,或R1是一式A的 反应基: R2和R3互不相关的分别为氢,C1-C8烷基,C3-C8烯基,C3-C8 炔基,或苯基,假使R2是氢,或C1-C8烷基,R3另外是一式 一CO-R14的群基,其中R14是C1-C8烷基或苯基; R5是C1-C8烷基或NR15R16; R4,R6,R7,R15和R16互不相关的分别为氢或C1-C8烷基;或R 4和R6一起形成一C2-C12烷撑架桥基,或 R5和R7和R4和R6无关,一起形成一C2-C12烷撑架桥基,或 假使R5是NR15R16,则R16和R7一起形成C2-C12烷撑架桥基; R8,R9,R10,R11和R12是氢或C1-C8烷基, R13是C1-C8烷基,C2-C8烯基,C2-C8炔基,C1-C8卤化烷基,NO2, NR8R9,OH,CN,OR10,SR10,C(O)R11,C(O)OR12或卤素; n是0,或一1,2或3的整数; R17是氢或C1-C8烷基;及 R18是氢,C1-C8烷基或苯基,其是由C1-C8烷基,乙烯基,C3 -C8烯基,C3-C8炔基,C1-C8卤化烷基,苯基,NO2,OH,CN,OR10,SR 10,C(O)R11,C(O)OR12或卤素取代的。2.如申请专利范围 第1项之有机化合物,其中R2和R3互不相关的分别为 氢或C1-C6烷基,特别是C1-C4烷基。3.如申请专利范围 第1项之有机化合物,其中R4和R6一起形成一C2-C6烷 撑架桥基。4.如申请专利范围第1项之有机化合物, 其中R5和R7形成一C2-C6烷撑架桥基,或假使R5是NR15R16 ,则R16和R7一起形成一C2-C6烷撑架桥基。5.如申请专 利范围第1项之式(II)有机化合物,其中 R1是苯基或基,这些反应基苯基及基是未经取 代的,或由CN,NR8R9,N3,NO2,CF3,SR10或OR10取代一次或多 次的,或R1是嗯基,氟烯基或硫代夹氧基,或R1是 一式A的反应基: n是0,及反应基R8,R9和R10是氢或C1-C6烷基; R2和R3是氢或C1-C6烷基; R4和R6一起形成一C2-C6烷撑架桥基; R5和R7一起形成一C2-C6烷撑架桥基; R17是氢;及 R18是氢或C1-C4烷基。6.一种制备式(II)化合物的方 法,包括反应一式(V)化合物和一式(VI)化合物, 其中反应基R4,R5,R6和R7是如申请专利范围第1项中 所定义者, 其中反应基R1,R2和R3是如申请专利范围第1项中所 定义者, Halogen是F,Cl,Br或I,及 第二步骤,进行所得反应产物的Wittig反应(使用一 式VII的鏻盐) R17R18CH-P(苯基)3+X- (VII) 其中 R17和R18是如申请专利范围第1项中所定义者, X是F,Cl,Br,I或四氟硼酸盐,其中此反应是在温度范 围-10℃至100℃间进行。7.一种制备式(VII)化合物的 方法, 其中R4,R5,R6和R7是如申请专利范围第1项中所定义 者, 包括将一如申请专利范围第1项之式(II)化合物曝 晒至一波长范围从200nm至650nm范围内的光源中 。8.一种组成物,包括: A)0.1至10%重量百分比(依据成份B)之如申请专利范 围第1项之式(II)化合物,及 B)至少一能够硷-催化加成反应或取代反应之有机 化合物。9.如申请专利范围第8项之组成物,其中成 份(B)是阴离子性可聚合或可交联有机物质。10.如 申请专利范围第8项之组成物,其中成份(B)是下述 系统之一: a)具有烷氧基矽烷或烷氧基矽氧烷侧键基的丙烯 酸酯, b)包括含羟基聚丙烯酸酯,聚酯及/或聚醚和脂肪系 或芳香系聚异氰酸酯的两-成份系统; c)包括官能基化聚丙烯酸酯和聚环氧化物的两-成 份系统,其中聚丙烯酸含有羧基和酐基; d)包括含氟-改质或矽酮-改质羟基聚丙烯酸酯,聚 酯及/或聚醚及脂肪系和芳香系聚异氰酸酯的两- 成份系统; e)包括(聚)酮亚胺和脂肪系或芳香系聚异氰酸酯的 两-成份系统; f)包括(聚)酮亚胺和未饱和丙烯酸酯树脂或乙醯乙 酸酯树脂或甲基-丙烯胺基甲基二醇酸盐的两- 成份系统; h)包括(聚)恶唑啶和含酐基之聚丙烯酸酯,或未饱 和丙烯酸酯树脂或聚异氰酸酯的两-成份系统; i)包括含环氧基聚丙烯酸酯和含羧基聚丙烯酸酯 的两-成份系统; l)以烯丙基环氧丙基醚为基础之聚合物; m)包括一(聚)醇和一(聚)异氰酸酯的两-成份系统; n)包括一,-乙烯未饱和羰基化合物及含有一活 化CH2基聚合物的两-成份系统。11.如申请专利范围 第8项之组成物,其中成份(B)是环氧树脂,或不同环 氧树脂的混合物。12.如申请专利范围第8项之组成 物,其另外包括了选自下列组成的敏感剂:山吨 酮,恶,啶,吩和若丹明。13.一种进行硷性催 化反应的方法,包括以具有波长200nm至650nm的光源 照射如申请专利范围第8项之组成物,使得式II化合 物之相邻碳-氮键裂解,如此释放出一硷,此硷可催 化成份B)的交联反应。14.如申请专利范围第13项之 方法,其中在曝光前或曝光后可进行加热。15.如申 请专利范围第13项之方法,其可用作涂覆物,模制组 成物或光结构层。16.如申请专利范围第8项之聚合 化或交联组成物。17.一种经涂覆基板,其在至少一 面涂覆一如申请专利范围第16项之组成物。 |
