| 主权项 |
1.一种用于液晶显示基板之电浆处理装置,包含:处理室,系气密性;载置台,系具有于前述处理室内为载置被处理基板之用的载置面;处理气体供给系统,系用以将处理气体供给至前述处理室内;排气系统,系将前述处理室内排气,且将前述处理室内设定为真空;激起系统,系于前述处理室发生放电,而将前述处理气体激起并生成电浆;多数之升降器,系用以进行对搬送装置之前述载置面上的被处理基板之负载以及无载之搬送辅助,而配设在前述载置台之外侧周围者,且前述各个升降器,系具有对前述载置台为可昇降之支撑轴,以及,从前述支撑轴向横方向伸出之托架,而前述托架,可在进行前述搬送辅助时,突出至前述载置台侧,而支撑被处理基板之突出位置,与生成前述电浆之时从前述载置台退避之退避位置之间,移动;及多数之盒子,系对应于前述各个托架之前述退避位置所配设且用以收纳前述托架。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中:前述盒子之上端部系仅有10mm-50mm,配设于较前述载置面下侧。3.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,更包含:盖体,系使前述托架收纳在前述盒子内之时,用以闭锁前述盒子之开口,将其配设在前述各个托架之上侧,以使其与前述支撑轴以及前述托架一起作昇降。4.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,更包含:规制构件,系于前述托架伸出于前述突出位置之时,前述盖体不会伸出于前述托架之上方以及前述载置面之上方而作规制之用。5.如申请专利范围第4项之电浆处理装置,其中前述托架于前述突出位置与前述退避位置之间,系对前述盒子作昇降以及于水平面内作旋转,且于该期间,前述盖体仅进行昇降。6.如申请专利范围第5项之电浆处理装置,其中:前述规制构件系具备配设在前述盒子之导轨,而前述盖体乃受前述导轨引导而作昇降,且利用前述导轨拘束水平面内之旋转方向的动作。7.如申请专利范围第3至6项中之任一项的电浆处理装置,其中:前述各个盒子系由以弹性承受垂直方向之荷重的悬挂架支撑。8.如申请专利范围第7项之电浆处理装置,其中前述悬挂架包含:芯轴,系为垂直;第1套管,系装置在前述芯轴之上侧,且固定在前述盒子;第2套管,系与前述第1套管隔开所定间隔,并装置在前述芯轴之下侧;弹性构件,系以弹性装设于前述第1及第2套管之间;及第3套管,系装着成被覆前述弹性构件。图式简单说明:第一图A、第一图B系分别表示本发明之实施态样有关的电浆处理装置之处理室的截面图,以及将该处理室之接合部扩大之截面图。第二图系表示于第一图所示之处理室的底面之平面图。第三图A-第三图C系分别表示于第一图所示之气体整流阻体的透视图,欲固定气体整流阻体之状态的截面图,以及其变更例之截面图。第四图系表示于第一图所示之电浆处理装置所使用的第2搬送辅助机构与载置台之关系的部份透视图。第五图系表示于第四图所示之第2搬送辅助机构的截面图。第六图系表示于第一图所示之上部电极的内部从上方表示的平面图。第七图系表示于第一图所示之上部电极的密封环之透视图。第八图系表示第2搬送辅助机构之变更例的要部之截面图。第九图系表示复式舱房型之电浆处理装置的透视图。第十图系表示于第九图所示之电浆处理装置上,于搬送装置欲交换载置台上之LCD基板的状态之透视图。第十一图A、第十一图B系分别表示第十图之搬送辅助机构未动作之状态的透视图,以及该搬送辅助机构动作之状态的透视图。 |
