Verfahren zum Herstellen einer Barriereschicht in einem elektronischen Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines elektronischen Bauelements mit einer Barriereschicht

摘要

Eine Barriereschicht wird auf einer Substratschicht gebildet, indem Implantierungsatome in das Substratmaterial der Substratschicht implantiert werden. Auf das Substratmaterial wird eine Metallschicht aufgebracht und das Substratmaterial, die Implantierungsatome und die Metallschicht werden zumindest teilweise miteinander in Reaktion gebracht, derart, dass die Barriereschicht gebildet wird.