发明名称 电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜技术
摘要 本发明属金属材料表面改性技术领域。该技术通过调节电弧离子镀纯钛、纯铌金属阴极靶在镀膜过程中弧电流随时间函数的连续变化,来控制薄膜沉积生长到不同厚度时的成分,合成结合力好,硬度超过普通氮化钛铌薄膜峰值硬度的氮化钛铌超硬质梯度薄膜。该方法沉积速度快,成分控制范围宽,且容易操作。
申请公布号 CN1321790A 申请公布日期 2001.11.14
申请号 CN00108513.1 申请日期 2000.04.28
申请人 大连理工大学 发明人 林国强
分类号 C23C14/32;C23C14/06 主分类号 C23C14/32
代理机构 大连理工大学专利事务所 代理人 侯明远
主权项 1、电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜技术的工艺过程是,工件经过清洗干燥后放入设备真空室中,经过抽真空、通氩气、启弧、加负偏压、溅射清洗、通氮气、镀膜、停弧、断电、炉冷等阶段后取出工件,其特征在于,在镀膜阶段,选择纯钛和纯铌作阴极靶材,两种靶材相间隔置于电弧离子镀的弧源位置上,镀膜开始时,将钛弧流调至62~68A不变,最好是65A不变,启铌弧,在35~45分钟内,最好是在40分钟内,铌弧流从100~105A,最好是102A,均匀连续调节到88~95A,最好是90A,接下来将铌弧流保持不变,在18~22分钟内,最好是20分钟内,再将钛弧流均匀连续调节到73~78A,最好是75A。
地址 116023辽宁省大连市甘井子区凌工路2号