发明名称 | 集成互补型金属氧化物半导体电路 | ||
摘要 | 一种集成CMOS集成半导体电路,包括由包括P和N沟道晶体管的CMOS晶体管构成的内部电路,所说P和N沟道晶体管具有形成于衬底上的栅极和源/漏区,所说内部电路在包括激活态和备用态的至少两种状态下起作用,在激活态时,输入和输出数据,在备用态时,保持内部电路的状态;由任意电子元件构成且具有电源的外部电路;开关部分,在内部电路的备用态时,该部分能够利用外部电路的电源,在内部电路的P和N沟道晶体管中的任一个的源区和衬底之间加反偏。 | ||
申请公布号 | CN1322013A | 申请公布日期 | 2001.11.14 |
申请号 | CN01120794.9 | 申请日期 | 2001.05.02 |
申请人 | 夏普公司 | 发明人 | 芦田勉 |
分类号 | H01L27/092 | 主分类号 | H01L27/092 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 陈景峻 |
主权项 | 1.一种集成CMOS半导体电路,包括:由包括P和N沟道晶体管的CMOS晶体管构成的内部电路,所说P和N沟道晶体管具有形成于半导体衬底上的栅极和源/漏区,所说内部电路在包括激活态和备用态的至少两种状态下起作用,在激活态时,输入和输出数据,在备用态时,保持内部电路的状态;由任意电子元件构成且具有电源的外部电路;开关部分,在内部电路的备用态时,能够利用外部电路的电源,在内部电路的P和N沟道晶体管中的任一个的源区和衬底之间加反偏。 | ||
地址 | 日本大阪市 |