| 主权项 |
1.一种用于离子植入装置之电浆源,包含:一电浆室,微波功率予以引入至其中,因而在电浆室中利用电子回旋加速器共振产生电浆,电浆通过一形成在该电浆室前侧面之电浆射出孔径流出;以及一磁场产生装置,供在一电浆室内产生磁场,在一电浆横越通过该电浆射出孔径流出方向之方向,导致电子回旋加速器共振。2.如申请专利范围第1项之用于离子植入装置之电浆源,其中,磁场予以产生为实际正交于横越电浆通过电浆射出孔径流出方向之方向。3.如申请专利范围第1项之用于离子植入装置之电浆源,其中,该磁场产生装置为一电磁铁。4.如申请专利范围第1项之用于离子植入装置之电浆源,其中,该磁场产生装置为一永久磁铁。5.如申请专利范围第1项之用于离子植入装置之电浆源,其中,该电浆室之内壁罩盖之至少一部份,系以一种导电材料作成。6.如申请专利范围第1至5项中任一项之用于离子植入装置之电浆源,其中,又包含一供引入微波之天线,其予以覆盖一种绝缘材料。图式简单说明:第一图为纵向剖面图,示一种装置,其中将一根据本发明之电浆源构造组装至一离子束照射装置(离子植入装置);第二图为沿第一图中线A-A所取之横向剖面图;第三图为横向剖面图,示使用一永久磁铁供磁场产生装置之情形,该情形对应于第二图情形;第四图为曲线图,示在自第六图中所示习知电浆源放电之电浆的电子能量分布测量结果;第五图为曲线图示在第一图中所示之电浆源所产生之电浆的电子能量分布测量结果;以及第六图为纵向剖面图,示一种装置,其中将一习知电浆源组装至离子束照射装置。 |
