发明名称 以聚合物为基础的氢氧化物传导膜
摘要 揭示一种以聚合物为基础的电解质组成物,其具有良好的膜形成性质,挠曲性,机械强度及高度的氢氧化物传导率。该组成物包括一有烷基四级铵盐构造的有机聚合物;一含氮杂环系四级铵盐;及金属氢氧化物盐。于一较佳实施例中,该组成物系铸成膜形式,其适合用于电源中做为离子传导性膜或其他特用膜,例如硷性电池或燃料电池等于其操作中有赖于氢氧根阴离子输送者。
申请公布号 TW463413 申请公布日期 2001.11.11
申请号 TW088116173 申请日期 1999.09.17
申请人 瑞维欧公司 发明人 韦恩姚;蔡志平;张元明;陈慕国
分类号 H01M8/10 主分类号 H01M8/10
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种以聚合物为基础的电解质组成物,其包括:有机聚合物,其具有烷基四级铵盐构造;含氮的杂环系四级铵盐;及金属氢氧化物盐。2.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中有烷基四级铵盐构造的有机聚合物为具有式A者其中R为选自一直接键,-C(O)O-与-C(O)NH-之中者;m为1至3的整数;n为1至4的整数;且X-为一相对阴离子。3.如申请专利范围第2项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中X-为选自Cl-,Br-和I-之中者。4.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中有烷基四级铵盐构造的有机聚合物为具有式C者其中R2系选自一直接键与CH2之中者;R3与R4互为低碳数烷基;n为一整数;且X-为一相对阴离子。5.如申请专利范围第4项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中X-系选自Cl-,Br-和I-之中者。6.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中该含氮杂环系四级铵盐系选自烷基咪锉盐与烷基锭盐之中者。7.如申请专利范围第6项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中该烷基锭盐系选自甲基与丁基锭盐之中者。8.如申请专利范围第7项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中该丁基锭盐为碘化丁基锭。9.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中该金属氢氧化物盐为氢氧化铝。10.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其包括聚二烯丙基二甲基铵氯化物,碘化丁基锭和氢氧化铝。11.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其更包括一黏合剂。12.如申请专利范围第1项之以聚合物为基础的电解质组成物,其中相对于每一莫耳的该有机聚合物成分,该组成物包括0.2至0.6莫耳的该含氮杂环系铵盐成分和0.3至0.5莫耳的该氢氧化物成分。13.一种制造聚合物固体电解质膜之方法,其包括下列诸步骤:(a)将具有烷基四级铵盐构造的有机聚合物,含氮的杂环系铵盐和一金属氢氧化物盐溶解于一有机溶剂内,以得一溶液;及(b)铸造所得溶液,以制得一聚合物固体电解质膜。14.如申请专利范围第13项之方法,其中该有机溶液系选自水,硝基甲烷与低碳数醇之中者。15.如申请专利范围第13项之方法,其中该步骤(a)的溶液更包括一溶解在其中的黏合剂。16.如申请专利范围第13项之方法,其中该步骤(b)的另一特征为将所得溶液铸入一聚酯网内。17.如申请专利范围第13项之方法,其中该步骤(a)包括将聚二烯丙基二甲基铵氯化物,碘化丁基锭和氢氧化铝溶解在一有机溶剂内。18.一种制造聚合物固体电解质膜之方法,其包括下述诸步骤:(a)将聚二烯丙基二甲基铵氯化物,碘化丁基锭和氢氧化铝溶解于一有机溶剂,而得一溶液;及(b)铸造所得溶液,以制得一聚合物固体电解质膜。图式简单说明:第一图为用各水溶性电解质溶液所达到的电压/电流密度曲线之图形表示。第二图为各种水溶性Amberlite(OH)TM溶液的氢氧化物传导率之图形表示。第三图为用实施例3所得电池的电压/电流密度曲线之图形表示。
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