| 主权项 |
1.一种自动散热型有机电激发光元件,其主要构造 系包括有: 一基板; 至少一形成于该基板上之第一电极; 复数个第一隔离层,分设于该第一电极之表面,并 与第一电极成交叉态样,而两绝缘板之间可自然形 成一预计发光区; 复数个具有散热功效之散热凸柱,固设于该第一隔 离层之部分表面; 至少一有机层,设于该预计发光区之第一电极表面 ;及 至少一第二电极,设于该有机层之表面。2.如申请 专利范围第1项所述之有机电激发光元件,其中该 散热凸柱之周边尚可设有一第二隔离层。3.如申 请专利范围第1项所述之有机电激发光元件,其中 该散热凸柱系由含金属材质制成者。4.如申请专 利范围第3项所述之有机电激发光元件,其中该散 热凸柱系可选择氮化硼、氮化铝、氧化铝、氧化 镁、及二硼化钛的其中之一含金属材质所制成。5 .如申请专利范围第1项所述之有机电激发光元件, 其中该第一隔离层系由一二氧化矽所制成。6.如 申请专利范围第1项所述之有机电激发光元件,其 中该散热凸柱系由具散热功效之非金属材质制成 者。7.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光 元件,尚包括有一绝缘密封层设于该第二电极及散 热凸柱之周边。8.如申请专利范围第1项所述之有 机电激发光元件,其中该基板之底侧亦可设有一反 射薄膜。9.一种自动散热型有机电激发光元件的 制作方法,其主要步骤系包括有: a.在一基板上依序形成至少一第一电极及一第一 隔离层; b.于第一隔离层之表面形成一具有散热功效之散 热物质层; c.利用微影及蚀刻技术,均向蚀刻散热物质层之部 分,致使其成为一立设于该第一隔离层表面之散热 凸柱; d.再度利用微影及蚀刻技术,均向蚀刻非散热凸柱 底端之部分第一隔离层,而两剩余第一隔离层之间 自然形成一预计发光区; e.利用阴影罩板分别在相对应预计发光区之第一 电极表面蒸镀至少一有机层;及 f.垂直蒸镀第二电极于该有机层之表面。10.如申 请专利范围第9项所述之制作方法,于步骤f之后尚 可包括有下列步骤: 于第二电极及散热凸柱之周边形成一绝缘密封层 。11.如申请专利范围第9项所述之制作方法,于步 骤c之后尚可包括有下列步骤: d1.于该散热凸柱之周边及第一电极表面蒸镀形成 一第二隔离层; d2.利用微影及蚀刻技术,均向蚀刻非散热凸柱周边 之部分第一隔离层及第二隔离层,而两第二隔离层 之间自然形成一预计发光区。12.如申请专利范围 第9项所述之制作方法,其中于步骤b.中所使用之散 热物质层系由一含金属之材质所制成。13.如申请 专利范围第12项所述之制作方法,其中该散热物质 层系可选择氮化硼、氮化铝、氧化铝、氧化镁、 及二硼化钛的其中之一含金属材质所制成。14.如 申请专利范围第9项所述之有机电激发光元件,其 中该步骤a中所使用之第一隔离层系由一二氧化矽 所制成。15.如申请专利范围第9项所述之制作方法 ,其中于步骤b.中所使用之散热物质层系由一具散 热功效之非金属之材质所制成。16.如申请专利范 围第9项所述之制作方法,于步骤f之后尚可包括下 列步骤: 形成一反射薄膜于基板之底侧。17.如申请专利范 围第9项所述之制作方法,于步骤d之后可为下列步 骤: 置放一阴影罩板于散热凸柱之顶端,且凸出于散热 凸柱之边缘,而分别在相对应预计发光区之第一电 极表面斜向蒸镀至少一有机层; 垂直蒸镀第二电极于该有机层之表面;及 于第二电极及散热凸柱之周边形成一绝缘密封层 。图式简单说明: 第一图:系第一种习用有机电激发光元件之构造截 面图; 第二图:系第二种习用有机电激发光元件之构造截 面图; 第三图A至第三图H:系本发明一较佳实施例在制作 时之各步骤构造截面图;及 第四图A至第四图G:系本发明又一实施例在制作时 之各步骤构造截面图。 |
