| 摘要 |
<p>이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 반도체 장비의 파우더 포집장치에 있어서, 진공펌프와 가스 정화기 사이에 위치한 배기라인의 일단에 설치되는 포집 용기와, 용기 상부에 경사지게 설치되는 격막과, 격막을 따라 비활성가스를 주입할 수 있도록 설치되는 비활성가스 주입라인과, 격막 하부에 그 끝단부가 위치하고 반도체 장비에 잔류하는 가스를 포집 용기로 유입하기 위한 배기가스 유입라인과, 파우더가 포집된 가스를 가스 정화기로 배출시킬 수 있도록 설치되는 배기가스 배출라인과, 배기가스 유입라인과 배기가스 배출라인 사이에 연결되는 바이패스 라인을 포함하는 반도체 장비의 파우더 포집장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 배기라인의 일단에 파우더 포집장치를 설치함으로써 배기라인의 막힘에 의한 배기가스 배출기능의 저하와 웨이퍼의 오염 등을 미연에 방지할 수 있으며, 펌프의 수명연장 및 가스정화기의 정화능력 향상 및 비용절감을 가져올 수 있다.</p> |
