发明名称 处理盒再生方法,处理盒及图像形成装置
摘要 一种可拆卸地安装到成象设备中的处理盒的再生方法,包括如下步骤:将所述成象总成拆开成一第一框架和一第二框架;去掉残留在开口周围的由用于密封开口的覆盖件所留下的残留物;安装一新的覆盖件以密封开口;然后向所述显影剂容纳部分供应新的显影剂;将所述第一和第二框架可拆卸地接合。
申请公布号 CN1074144C 申请公布日期 2001.10.31
申请号 CN94107267.3 申请日期 1994.06.30
申请人 佳能株式会社 发明人 藤厚靖夫;河口秀司;三宅博章;野村义矢;松田健司
分类号 G03G21/18 主分类号 G03G21/18
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 孙征
主权项 1.可卸式安装于成像设备上的处理盒的再制方法,具有以下步骤:将所述的处理盒(B)拆卸成一个第一框架(14)和一个第二框架(115),所述的第一框架(14)具有一个用于容纳显影剂(t)的显影剂容纳部分(12a),所述的第二框架(115)具有一个电子照相感光鼓(9),和一个显影剂承载件,用于承载由所述容纳显影剂的部分向电子感光件输送的显影剂以便将所述的电子感光件上形成的潜像显影,因而露出所述第一框架上的一个孔口,使所述显影剂可以从所述第一框架移至第二框架;通过与一个浸有溶剂的材料(66)摩擦来除去曾用于密封孔口并依然存留在孔口附近的覆盖件残留物(26a),其中,所述的覆盖件具有一个用于密封孔口的密封部分(26)和一个延伸部分,拉动延伸部分可使所述密封部分被撕掉从而打开孔口,而其一部分却依然留在孔口周围,所述残留物是密封部分的一部分;安装一个新的覆盖件(26,100)以密封孔;然后,向所述显影剂容纳部分提供新的显影剂;然后,将所述第一框架和第二框架接合在一起。
地址 日本东京