| 发明名称 |
EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG83810(A1) |
申请公布日期 |
2001.10.16 |
| 申请号 |
SG20000004498 |
申请日期 |
2000.08.15 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
AKINORI SHIRATO;KAZUHIKO HORI;TOSHIO MATSUURA |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/20;G03F7/22;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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