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发明名称 METHOD OF DEPOSITING METAL FILMS
摘要 <p>The invention relates to methods of sputter deposition of a metallic layer on to a substrate including utilising substantially krypton.</p>
申请公布号 WO2001073153(A1) 申请公布日期 2001.10.04
申请号 GB2001001407 申请日期 2001.03.27
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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