| 发明名称 | 制造光盘基片的方法,制造光盘和光盘基片的设备 | ||
| 摘要 | 用于记录/再现信息的光盘在其基片表面上具有导致噪声增加的微细不规则性的问题。本发明提供了制造具有坑－台图案之光盘的方法,其有机材料通过紫外光辐射而改进。在从300到375nm波长区域内的一个波长上基片的透过率不超过50%。并且由此光盘基片的表面被平滑到使基片噪声降低和记录与再现特性提高。而且,在基片和其上形成的其它层之间的粘附度改善了,并因此降低了所产生缺陷的数目。 | ||
| 申请公布号 | CN1313591A | 申请公布日期 | 2001.09.19 |
| 申请号 | CN01101263.3 | 申请日期 | 2001.01.12 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 安斋由美子;寺尾元康;西田哲也;宫本真 |
| 分类号 | G11B7/24;G11B7/26 | 主分类号 | G11B7/24 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1．一种制造光盘基片的方法，包括工序：通过将含氧气体吹流到由在其主有机原子链包含氧原子的塑料材料构成的并且在其表面上具有不规则性的光盘基片上和通过将紫外光辐射到该光盘基片上使得在光盘基片上产生的臭氧变成不超过0.1ppm来改善聚碳酸酯的表面。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||