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发明名称 Photoresist composition
摘要
申请公布号 EP0392409(B1) 申请公布日期 2001.09.05
申请号 EP19900106735 申请日期 1990.04.09
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LIMITED 发明人 TAKEYAMA, NAOKI;UETANI, YASUNORI;NAKANISHI, HIROTOSHI;HANAWA, RYOTARO
分类号 G03F7/004;G03F7/09;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/09;G03F7/008;G03C1/825;G03C1/52 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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