| 主权项 |
1.一种频率调变终点侦测(endpoint detecting)方法,适用于寻找一制程装置进行中之一制程的终点时间,该侦测方法包含有:于一既定正常状态下,以一控制装置所提供之一控制信号以控制该制程装置并进行该制程,该制程装置于进行该制程时产生一制程信号;依据该制程信号,以一频率调变方式,产生一与该控制信号同步之同步信号;依据该既定正常状态下之该控制信号与该同步信号之关联性定义一判断标准;以及监测该控制信号与该同步信号,当该控制信号与该同步信号不合乎该判断标准时的时间点即为该终点时间。2.如申请专利范围第1项之侦测方法,其中该控制信号包含有一第一振幅以及一第一相位角,该同步信号包含有一第二振幅以及一第二相位角,而该判断标准系为该第一振幅、第一相位角、第二振幅以及第二相位角彼此的关联性。3.如申请专利范围第2项之侦测方法,其中该判断标准系包含有:该第一相位角与该第二相位角相差一预定値时,该第一振幅与该第二振幅之比値于一定范围内。4.如申请专利范围第1项之侦测方法,其中该制程装置系为一电浆制程装置。5.如申请专利范围第1项之侦测方法,其中该制程系为一电浆蚀刻制程。6.如申请专利范围第1项之侦测方法,其中该控制信号系为该控制装置所提供之电浆电源,而该电浆电源系以一第一频率发送。7.如申请专利范围第6项之侦测方法,其中该第一频率系为13.56MHz。8.如申请专利范围第1项之侦测方法,该制程装置包含有一直空舱(vacuum chamber),而该制程信号系为该真空舱于进行一电浆制程时,因电浆放电所产生的一光强度信号。9.一种制程设备,包含有:一控制装置,用以提供一控制信号;一制程装置,受该控制信号控制以进行一制程,并产生一制程信号;以及一终点侦测装置,包含有一同步信号产生器,依据该制程信号,以产生一与该控制信号同步之同步信号,该终点侦测装置用以监测该制程信号以及该控制信号,当该控制信号与该同步信号不合乎一判断标准时,即提供一终点信号与该控制装置,以变更该制程装置中之制程。10.如申请专利范围第9项之制程设备,其中该控制信号包含有一第一振幅以及一第一相位角,该同步信号包含有一第二振幅以及一第二相位角,而该判断标准系为当该第一相位角与该第二相位角相差一预定値时,该第一振幅与该第二振幅之比値于一定范围内。11.如申请专利范围第9项之制程设备,其中,且该同步信号产生器系为一锁相放大器(lock-in-amplifier),其依据一预定之相位差,用以放大该制程信号中与该控制信号同步之部分,以产生一同步信号。12.如申请专利范围第11项之制程设备,其中该控制信号包含有一第一振幅,该同步信号包含有一第二振幅,而该判断标准系为该第二振幅与该第一振幅之比値必须于一定范围内。13.如申请专利范围第9项之制程设备,其中,且该同步信号产生器系为一滤波器,用以滤除该制程信号中与该控制信号步同步之部分以产生一同步信号。14.如申请专利范围第9项之制程设备,其中该制程装置系为一电浆制程装置。15.如申请专利范围第9项之制程设备,其中该制程系为一电浆蚀刻制程。16.如申请专利范围第9项之制程设备,其中该控制信号系为该控制装置所提供之电浆电源,该电浆电源系以一第一频率发送。17.如申请专利范围第16项之制程设备,其中该第一频率系为13.56MHz。18.如申请专利范围第9项之制程设备,该制程装置包含有一直空舱(vacuum chamber),而该制程信号系为该真空舱于进行一电浆制程时,因电浆放电所产生的一光强度信号。图式简单说明:第一图为一种习知的制程设备;第二图为一种习知的终点侦测方法之示意图;第三图为本发明之制程设备;第四图为本发明之终点侦测方法之示意图;第五图为第三图中之终点侦测装置的第一种实施例;以及第六图为第三图中之终点侦测装置的第二种实施例。 |
