发明名称 绝缘闸型半导体装置
摘要 本发明之目的在于提供一种可一面减低闸极电容以获得较快的交换速度,而一面防止闸极电阻之增大,且可对各单元(cell)之闸极施加相等电压的绝缘闸型半导体装置。在作为汲极区域l之例如n型半导体层的表面侧上有规则性地形成复数个p型扩散区域(本体区域2)。然后,在复数个p型本体区域2之各自的表面侧上形成n型扩散区域以作为源极区域3,藉由在由该源极区域3和汲极区域l所夹住之部分上形成有通道区域8,而形成电晶体单元(tansistor cell)。于表面上介着绝缘膜4设有闸极5;此闸极5在前述数个单元所邻接的三或四个单元之交点部分形成有一定形状之除去部10,并使该除去部10不会设在前述通道区域8上。
申请公布号 TW451493 申请公布日期 2001.08.21
申请号 TW088122331 申请日期 1999.12.18
申请人 罗沐股份有限公司 发明人 高石昌
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;陈昭诚 台北巿武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种绝缘闸型半导体装置,第一导电形半导体层;由设于该半导体层之表面侧的第二导电形扩散区域所构成的本体区域;形成于该本体区域之表面侧的第一导电形扩散区域;以及由该第一导电形扩散区域和前述第一导电形半导体层所夹住且形成于前述本体区域之表面侧的通道区域所形成之电晶体单元,且该电晶体单元系在前述第一导电形半导体层上有规则性地形成复数个,而该半导体层之表面介着绝缘膜设有闸极覆盖至少前述通道区域之表面,同时该闸极,系在前述复数个电晶体单元所邻接的三或四个前述电晶体单元之交点部分以一定之形状除去,并使该除去之部分不会设在前述通道区域上。2.如申请专利范围第1项之绝缘闸型半导体装置,其中前述复数个电晶体单元系以每一列错开半个节距之方式排列形成,同时前述本体区域及前述电晶体单元系以平面形状形成四角形,且在前述复数个电晶体单元所邻接的三个电晶体单元之交点部分上形成有前述闸极之除去部。3.如申请专利范围第1项之绝缘闸型半导体装置,其中前述复数个电晶体单元系以每一列错开半个节距之方式排列形成,同时前述本体区域及前述电晶体单元系以平面形状形成六角形,且在前述复数个电晶体单元所邻接的三个电晶体单元之交点部分上形成有前述闸极之除去部。4.如申请专利范围第1项之绝缘闸型半导体装置,其中前述复数个电晶体单元系排列形成矩阵状,同时前述本体区域及前述电晶体单元系以平面形状形成四角形,且在前述复数个电晶体单元所邻接的四个电晶体单元之交点部分上形成有前述闸极之除去部。图式简单说明:第一图为作为本发明之绝缘闸型半导体装置之一实施形态的纵型MOSFET之局部截面斜视说明图。第二图显示第一图之闸极除去部之另一构成例的说明图。第三图(a)、第三图(b)、第三图(c)显示单元配置及闸极除去部之更另一例之构成例的说明图。第四图(a)、第四图(b)为习知之纵型MOSFET之局部的截面说明图。第五图减少习知之纵型MOSFET之闸极电容之例的说明图。
地址 日本