发明名称 物理化学之电子束抛光方法
摘要 本发明系关于一物理化学之电子束抛光方法,经由控制电解液浓度、温度及电压装置造成电极尖端放电,使待抛物导电,此时电解溶液槽变成一电容槽。再将待抛物置入其中,此时使待抛物与槽液之间产生气封,透过气封之作用可使待抛物和电解液之间形成如电浆(PLASMA)般的空间,并透过电极产生交接之作用在被抛物之表面击平,使待抛物产生如镜面之平面,达成表面抛光之目的。
申请公布号 TW451003 申请公布日期 2001.08.21
申请号 TW087118319 申请日期 1998.11.04
申请人 环宇真空科技股份有限公司 发明人 徐正;周钟霖
分类号 C25F3/16;C25F3/20 主分类号 C25F3/16
代理机构 代理人 林志诚 台北巿南京东路三段一○三号十楼
主权项 1.一种物理化学之电子束抛光方法,其包含: 一电解液槽,用以容置电解液及抛光元件; 一温度控制装置; 一电压控制装置,其系包含一电极装置,一气封产 生装置,为与上述电极装置连接的导电线;其制造 过程包括如下步骤: (A)根据不同之待抛物调配不同浓度之电解液,电解 液浓度为1-10%,其重点在于使电解溶液之浓度不致 太稀影响其效率;亦避免过浓伤害待抛物的品质, 使金属易产生蚀刻而削减机制表面的亮度光泽, (B)调整温度至70-90℃,其重点在于避免温度太低损 及气封的稳定性且使过程有大幅的电流及电压波 动;过高时因昇高电解质作用使机制品质受损、并 影响气封及电解液之间之热平衡, (C)调整电压至240-380V,过高电压易造成制品及电解 液间隙的崩溃造成冲蚀,若电压太低则制品四周气 封的稳定性受损。2.如申请专利范围第1项之物理 化学之电子束抛光方法,其中在电解液内加入浓度 为0.5-3%的氯化铵、硫氰铵,经实验证实得延长氯化 铵、硫氰铵电解液寿命50-100%。图式简单说明: 第一图为本抛光方法之示意图 第二图为本方法之操作流程图 第三图为不同浓度C的电解液的电压U与电解液温 度t之关系图 第四图为表面粗糙度Ra及反射率与施加电压(电 位)U的关系图
地址 台北巿南京东路二段五十号六楼之一