| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé et un dispositif servant à maintenir un espace optique purgé entre une pellicule et un réticule de système de photolithographie. Un cadre poreux situé entre le réticule et la pellicule permet de maintenir l'espace optique purgé. Le cadre poreux comprend une première et une deuxième surfaces opposées. La première surface opposée définit une première ouverture et est configurée pour s'assembler à la pellicule. La deuxième surface opposée définit une deuxième ouverture, et est configurée pour s'assembler au réticule de manière à fermer l'espace optique entre la pellicule et le réticule. Une interface d'apport de gaz permet d'injecter un gaz de purge à travers le cadre poreux dans cet espace.</p> |
