GAS SUPPLY DEVICE FOR PRECURSORS WITH A LOW VAPOR PRESSURE

摘要

Die Erfindung betrifft eine Gasversorgungsvorrichtung zum Zuführen von Precursoren geringen Dampfdrucks zu CVD-Beschichtungsanlagen. Die Gasversorgungsvorrichtung weist einen Vorratsbehälter für den Precursor auf einer ersten Temperatur T1, einen Zwischenspeicher zum Zwischenspeichern des dampfförmigen Precursors auf einer zweiten Temperatur T2 und bei einem konstanten Druck p2, eine erste Gasleitung zwischen dem Vorratsbehälter und dem Zwischenspeicher und eine zweite Gasleitung zur Entnahme von Gas aus dem Zwischenspeicher auf. Erfindungsgemäss wird die Gasversorgungsvorrichtung dadurch weitergebildet, dass die erste Temperatur T1 höher als die zweite Temperatur T2 ist. Durch die geringere Temperatur T2 des Zwischenspeichers werden Wartungsarbeiten am Zwischenspeicher erleichtert, während die Verdampfung des Precursors bei der höheren Temperatur T1 im Vorratsbehälter mit einer hohen Verdampfungsrate erfolgt. Bei einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung wird ein erster Precursordampfs im Zwischenspeicher mit einem Gas und/oder zweiten Precursordampf gemischt. Dabei ist der Partialdruck des ersten Precursordampfs im Zwischenspeicher geringer als der des unverdünnten ersten Precursordampfs bei gleichem Gesamtdruck im Zwischenspeicher, so dass die Temperatur T2 des Zwischenspeichers und nachfolgender Leitungen verringert werden können. Durch die Absenkung der Temperatur T2 können kostengünstigere Komponenten eingesetzt werden.