| 主权项 |
1.一种用以产生高密度电浆的装置,其包括:一制程腔其具有置于一平面的介电窗;一线圈置于该制程腔外靠近该介电窗的位置且实质与该平面平行;及一电容屏蔽置于该线圈与该介电窗间,其中该屏蔽具有数个开口,且其中该屏蔽之数个开口系置于该线圈间。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该线圈为涡旋状。3.如申请专利范围第1项之装置,其中该介电窗与该屏蔽为实质平坦。4.如申请专利范围第3项之装置,其中该屏蔽之数个开口中的每个开口之形状为共同中心。5.如申请专利范围第3项之装置,其中该屏蔽更包括一部份相外延伸及一屏蔽固持以藉由与该相外延伸部份结合支撑该屏蔽。6.如申请专利范围第1项之装置,其中该线圈为螺旋状。7.该介电窗及该屏蔽系以其中心置于该线圈中。8.如申请专利范围第7项之装置,其中该屏蔽具有数个螺旋延伸且沿周围间隔设置之开口。9.如申请专利范围第1项之装置,其中该屏蔽系以铝金属制成。10.如申请专利范围第1项之装置,其中该屏蔽系以铜金属制成。11.如申请专利范围第1项之装置,其中该屏蔽之表面镀一层银。12.一种用以制造一装置之屏蔽的方法,该装置利用一线圈产生高密度电浆并具有一介电窗,该制造方法包括以下步骤:利用电浆进行蚀刻制程;检查该介电窗表面之蚀刻部份的一特征图样;获得欲蚀刻的第一部份及欲沉积的第二部份;制造该屏蔽其具有一第一部份对应该介电窗之第一部份及一欲打开第二部份对应该介电窗之第二部份;及将该屏蔽的第二部份置于线圈间。图式简单说明:第一图为显示用于蚀刻之电感耦合电浆装置之截面图;第二图为显示如第一图中的电感耦合电浆装置之一螺旋线圈平面图;第三图为显示如第一图中的电感耦合电浆装置之一介电窗表面图;第四图为显示复制第三图中介电窗表面特征图样之图示;第五图为显示制造本发明之屏蔽的流程图;第六图为显示一根据本发明屏蔽之较佳实施例之平面图;第七图为显示根据本发明较佳实施例之电感耦合电浆装置的线圈单元之深入透视图;第八图为显示根据本发明较佳实施例之包括屏蔽电感耦合电浆装置截面图;及第九图为显示用于根据本发明之另一较佳实施例之螺旋线圈的屏蔽深入透视图。 |
