发明名称 TEMPERATURE CONTROL OF CVD METHOD FOR REDUCED HAZE
摘要 <p>L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de verre recouvert présentant un faible trouble. L'invention traite d'un substrat de verre de chaux sodée présentant au moins une surface sur laquelle un revêtement peut être déposé. Le substrat de verre est chauffé et maintenu à une température suffisante pour volatiliser des sels qui peuvent être formés pendant le dépôt d'un premier revêtement sur le substrat de verre. Un premier mélange précurseur gazeux comprenant un précurseur à base d'halogène, un précurseur métallique, un agent d'oxydation et un gaz porteur inerte est dirigé vers et le long de la surface à recouvrir . En faisant réagir le mélange au niveau ou près de la surface du substrat de verre, ce procédé permet de former un premier revêtement contenant une couche d'oxyde de métal. Le substrat de verre est refroidi à une température pour réduire la croissance cristalline dans une seconde couche à appliquer sur la première couche. Un deuxième mélange précurseur gazeux comprenant un deuxième précurseur métallique, un agent d'oxydation, et un gaz porteur inerte est dirigé sur ou près de la surface recouverte pour former un revêtement à base de métal. Le substrat de verre est refroidi à une température ambiante. L'invention comprend également un substrat de verre recouvert produit selon le procédé susmentionné.</p>
申请公布号 WO2001055044(A1) 申请公布日期 2001.08.02
申请号 US2000042667 申请日期 2000.12.07
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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