发明名称 SPUTTER CHAMBER AND VACUUM TRANSPORT CHAMBER AND VACUUM TREATMENT INSTALLATIONS WITH CHAMBERS OF THIS TYPE
摘要 <p>In einer Sputterkammer ist ein Substratträger (5) um eine Achse (A) getrieben drehbeweglich montiert. Mit einer Zentralachse (Z) zur Drehachse des Substratträgers (5) geneigt (β) ist in der Sputterkammer eine Magnetronquelle montiert.</p>
申请公布号 WO2001053561(A1) 申请公布日期 2001.07.26
申请号 CH2001000020 申请日期 2001.01.12
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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