发明名称 石版印刷投影装置、使用该石版印刷投影装置制造一装置之方法以及以该制造方法制成之装置
摘要 一种平版印刷投影装置,其包含:一照射系统,其用以供应一辐射投影束;一遮罩台,其具备一遮罩托架以支承一遮罩;一基体台,其具备一基体托架以支承一基体;及一投影系统,其用以将该遮罩之一辐照部分映照在该基体之一标的部分上。该平版印刷投影装置更包含一遮罩处理装置以在一接收遮罩之装载埠模组与该遮罩托架间交换一遮罩,该遮罩处理装置具有第一和第二机械装置以进行此种交换。该第一机械装置在该装载埠与第二机械装置间交换一遮罩,且该第二机械装置在该第一机械装置与遮罩托架间交换一遮罩。此外,该第一机械装置亦可将一遮罩移至一内部遮罩库和一遮罩检视模组。可存在预先校准单元以在一遮罩于该第一机械装置与第二机械装置间及该第二机械装置与遮罩托架间进行交换时检查遮罩位置。
申请公布号 TW446858 申请公布日期 2001.07.21
申请号 TW089107077 申请日期 2000.04.15
申请人 艾斯门石版印刷公司 发明人 督迪 法兰斯 库珀;贞 杰普 库特
分类号 G03F9/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种平版印刷投影装置,其用于将一遮罩内之一遮罩图案映照在一基体上,该装置包含:一照射系统,其建构并安排为供应一辐射投影束;一遮罩台,其具备一用以支撑一遮罩之遮罩托架;一基体台,其具备一用以支承一基体之基体托架;一投影系统,其建构并安排为将遮罩之一辐照部分映照在基体之标的部分上;及一遮罩处理装置,其包含一建构为接收遮罩之装载埠模组,该遮罩处理装置建构并安排为在该装载埠模组与遮罩托架间交换一遮罩,其特征在于该遮罩处理装置更包含一第一机械装置和一第二机械装置,该第一机械装置建构并安排为在该装载埠模组与第二机械装置间交换一遮罩,且该第二机械装置建构并安排为在该第一机械装置与遮罩托架间交换一遮罩。2.如申请专利范围第1项之平版印刷投影装置,其中该第二机械装置具备二个遮罩支承配置。3.如申请专利范围第2项之平版印刷投影装置,其中该第二机械装置为可旋转。4.如申请专利范围第2或3项之平版印刷投影装置,其中该第二机械装置之每一遮罩支承配置包含一升降机,该等升降机建构为在该第二机械装置与遮罩托架间交换一遮罩。5.如申请专利范围第4项之平版印刷投影装置,其中该等升降机具备建构为在顶侧支承一遮罩之真空操作端效应器。6.如申请专利范围第1项之平版印刷投影装置,其中该遮罩处理装置更包含一或多个建构为接收一遮罩之其他遮罩工作站,且该第一机械装置建构并安排为在装载埠模组其中之一、第二机械装置及其他遮罩工作站及另一装载埠模组、第二机械装置及其他遮罩工作站间交换一遮罩。7.如申请专利范围第6项之平版印刷投影装置,其中该等其他遮罩工作站包含一遮罩库建构并安排为储存一或多个遮罩。8.如申请专利范围第6项之平版印刷投影装置,其中该等其他遮罩工作站包含一遮罩检视站建构并安排为检查一遮罩是否受污染。9.如申请专利范围第1项之平版印刷投影装置,其中该第一机械装置有一手臂状构造具备三个旋转关节容许在一平面内运动。10.如申请专利范围第9项之平版印刷投影装置,其中该第一机械装置更包含一线性致动器容许以一垂直于该平面之方向作移动。11.如申请专利范围第1项之平版印刷投影装置,其中该遮罩处理装置更包含至少一预先校准单元建构并安排为用以侦测由该第一机械装置、第二机械装置和遮罩托架其中之一支承之一遮罩的位置,每一预先校准单元与该第二机械装置能和该第一机械装置或遮罩托架交换一遮罩之一位置相关。12.如申请专利范围第11项之平版印刷投影装置,其中每一预先校准单元包含至少一侦测器建构为侦测出现在一遮罩上之一标记的位置。13.如申请专利范围第12项之平版印刷投影装置,其中每一侦测器为一四格侦测器。14.如申请专利范围第12项之平版印刷投影装置,其中该预先校准单元更包含至少一照射单元安排为照明在该遮罩上之一标记。15.一种使用平版印刷投影装置制造一装置之方法,该平版印刷投影装置包含:一照射系统,其建构并安排为供应一辐射投影束;一遮罩台,其具备一用以支撑一遮罩之遮罩托架;一基体台,其具备一用以支承一基体之基体托架;一投影系统,其建构并安排为将遮罩之一辐照部分映照在基体之标的部分上;及一遮罩处理装置,其包含一建构为接收遮罩之装载埠模组,该遮罩处理装置建构并安排为在该装载埠模组与遮罩托架间交换一遮罩,该方法包含以下步骤:对该遮罩托架提供一载有一图案之遮罩;对该基体台提供上基体,该基体至少局部受一层对辐射敏感材料之覆盖;及利用该辐射投影束将该遮罩图案之至少一部份的影像映照在该基体之一标的部分上,该方法之特征在于对该遮罩托架提供一载有一图案之遮罩的步骤包含以下次步骤:对该装载埠模组提供遮罩;利用该遮罩处理装置内之一第一机械装置于该装载埠模组及该遮罩处理装置内之一第二机械装置间交换该遮罩;及利用该第二机械装置于该第一机械装置及遮罩托架间交换该遮罩。16.一种藉使用平版印刷投影装置之方法所制造而成之装置,该平版印刷投影装置包含:一照射系统,其建构并安排为供应一辐射投影束;一遮罩台,其具备一用以支撑一遮罩之遮罩托架;一基体台,其具备一用以支承一基体之基体托架;一投影系统,其建构并安排为将遮罩之一辐照部分映照在基体之标的部分上;及一遮罩处理装置,其包含一建构为接收遮罩之装载埠模组,该遮罩处理装置建构并安排为在该装载埠模组与遮罩托架间交换一遮罩,该方法包含以下步骤:对该遮罩托架提供一载有一图案之遮罩;对该基体台提供一基体,该基体至少局部受一层对辐射敏感材料之覆盖;及利用该辐射投影束将该遮罩图案之至少一部份的影像映照在该基体之一标的部分上,该方法之特征在于对该遮罩托架提供一载有一图案之遮罩的步骤包含以下次步骤:对该装载埠模组提供遮罩;利用该遮罩处理装置内之一第一机械装置于该装载埠模组及该遮罩处理装置内之一第二机械装置间交换该遮罩;及利用该第二机械装置于该第一机械装置及遮罩托架间交换该遮罩。图式简单说明:第一图为一依据本发明之平版印刷投影装置的示意图;第二图为第一图平版印刷投影装置之遮罩处理装置的平面示意图;第三图为第二图遮罩处理装置之第一机械装置之端效应器的详图;第四图a为第二图遮罩处理装置之第二机械装置的侧面图;第四图b为第四图a第二机械装置之一端效应器的前视图;第五图为第四图a和第四图b之端效应器的底视示意图;第六图a、第六图b和第六图c概略显示利用第二图遮罩处理装置第二机械装置在遮罩台进行之一交换次序;且第七图显示由第二图遮罩处理装置之一预先校准单元支承的遮罩。
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