发明名称 PHYSICAL VAPOR PROCESSING OF A SURFACE WITH NON-UNIFORMITY COMPENSATION
摘要
申请公布号 EP1114436(A2) 申请公布日期 2001.07.11
申请号 EP19990935293 申请日期 1999.07.20
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED;TOKYO ELECTRON LTD 发明人 LICATA, THOMAS, J.;HURWITT, STEVEN, D. DI
分类号 C23C14/35;C23C14/02;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/34 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
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