| 摘要 |
<p>Um eine einfache und kostengünstige Vorrichtung zum Öffnen und Schliessen von getrennten Absaugöffnungen (13, 14, 15) bei einer Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten, insbesondere Halbleiterwafern, mit einem mit Behandlungsfluid gefüllten Behandlungsbecken (3), das in einem im wesentlichen geschlossenen Raum angeordnet ist, der wenigstens zwei getrennte Absaugöffnungen (13, 14, 15) aufweist, vorzusehen, ist eine die Absaugöffnung gegenüber dem Raum abdeckende, drehbare Scheibe (17) mit einer Durchgangsöffnung (18), mit der eine der Absaugöffnungen (13, 14, 15) wenigstens teilweise überdeckbar ist, vorgesehen.</p> |
