DEVICE FOR ADJUSTING A BEAM SYSTEM

摘要

Es wird eine Vorrichtung zum Einstellen eines Richtstrahlsystems vorgeschlagen, die eine Basis mit mindestens einer Strahlquelle, mindestens drei Stützelemente, die der Fixierung der Basis an einem Träger dienen, aufweist, wobei zum Verändern des Abstandes der mindestens einen Strahlquelle von einem fokussierenden Mittel und der Ausrichtung der mindestens einen Strahlquelle im Verhältnis zu dem fokussierenden Mittel die mindestens drei Stützelemente selectiv und unabhängig voneinander in ihrer jeweiligen Länge veränderbar sind.