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经营范围
发明名称
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY USEFUL FOR COPPER/TANTALUM SUBSTRATES
摘要
申请公布号
KR20010053167(A)
申请公布日期
2001.06.25
申请号
KR1020007014742
申请日期
2000.12.23
申请人
发明人
分类号
C09K3/14
主分类号
C09K3/14
代理机构
代理人
主权项
地址
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