发明名称 CERAMIC COMPOSITIONS, PHYSICAL VAPOR DEPOSITION TARGETS AND METHODS OF FORMING CERAMIC COMPOSITIONS
摘要 <p>L'invention concerne un procédé de formation d'une composition céramique. Des matières comprenant du plomb, du zirconium, du titane et du bismuth sont combinées de manière à former un mélange. L'une de ces matières au moins est introduite dans ce mélange sous la forme d'une poudre en nanophase. Ledit mélange est alors densifié, d'où la formation d'une composition céramique. L'invention concerne également un procédé de formation d'une composition céramique ferroélectrique dense. Du plomb, du zirconium, du titane et du bismuth sont combinés de manière à former un mélange. Ce mélange est alors densifié, d'où la formation d'une composition céramique ferroélectrique présentant une densité supérieure ou égale à 95 % d'une densité maximale théorique correspondant à cette composition, dont une majeure partie présente une grosseur de grain inférieure ou égale à environ 500 nanomètres. L'invention concerne en outre une composition céramique ferroélectrique contenant du plomb, du zirconium, du titane et du bismuth. Ladite composition présente une densité supérieure ou égale à 95 % d'une densité maximale théorique correspondant à cette composition, dont la majeure partie présente une grosseur de grain inférieure ou égale à environ 500 nanomètres.</p>
申请公布号 WO2001044138(A1) 申请公布日期 2001.06.21
申请号 US2000033936 申请日期 2000.12.14
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址