发明名称 渐增金属宽度之电感结构
摘要 本发明提供一种渐增金属宽度之电感结构,包括一成缧旋状而具有连续回圈之导电层,其特征在于:该导电层之宽度随该连续回圈由内向外旋转而逐渐增加。本发明所提供之电感结构可提高电感之Q值且不影响其共振频率,同时也不会增加布局面积。
申请公布号 TW441121 申请公布日期 2001.06.16
申请号 TW089102053 申请日期 2000.02.08
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 许恒铭;何彦仕
分类号 H01L29/00 主分类号 H01L29/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种渐增金属宽度之电感结构,包括一成缧旋状而具有连续回圈之导电层,其特征在于:导电层之宽度随该连续回圈由内向外旋转而逐渐增加。2.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该导电层系形成于一绝缘层中。3.如申请专利范围第2项所述之结构,其中该绝缘层系一氧化矽层。4.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该导电层之宽度系以9.12.15.18.21m之等差级数方式逐渐增加。5.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该导电层系一金属层。图式简单说明:第一图显示了一传统之电感结构;第二图显示本发明一实施例中之电感结构;第三图显示第二图中电感结构与传统电感结构Q値之比较。
地址 新竹科学工业园区园区三路一二一号