| 主权项 |
1.一种具有抗反射涂层的光学制品,其包含,折射率 为1.4到1.7的可透光基板、以及由重叠层组成的抗 反射薄膜,以下列顺序在可透光基板上形成:一吸 光薄膜为第一层,一折射率1.6到2.4的透明介电薄膜 为第二层,一吸光薄膜为第三层,一折射率1.6到2.4 的透明介电薄膜为第四层,以及一折射率1.35到1.5 的透明介电薄膜为第五层。2.如申请专利范围第1 项之具有抗反射涂层的光学制品,其中,分别作为 第二和第四层的透明介电薄膜,个别的厚度为30到 80nm,而作为第五层的透明介电薄膜的厚度为60到100 nm。3.如申请专利范围第1项之具有抗反射涂层的 光学制品,其中,吸光薄膜个别为至少包含一种金 属的薄膜,该金属是由钛、铬、锆、钼、铁、铌、 钽、铪、镍、镍-铁合金和不锈钢所组成的群中选 择出来的。4.如申请专利范围第3项之具有抗反射 涂层的光学制品,其中,吸光薄膜个别的厚度为5到 18nm。5.如申请专利范围第1项之具有抗反射涂层的 光学制品,其中,折射率1.6到2.4的透明介电薄膜,至 少一层为氧化铬的薄膜。6.如申请专利范围第1项 之具有抗反射涂层的光学制品,其中,吸光薄膜个 别为至少包含一种金属氮化物的薄膜,该金属氮化 物是由氮化钛、氮化铬、氮化锆、氮化铪、和氮 化钽所组成的群中选择出来的。7.如申请专利范 围第6项之具有抗反射涂层的光学制品,其中,吸光 薄膜个别的厚度为3到6nm。8.一种具有抗反射涂层 的光学制品,其包含,折射率为1.4到1.7的可透光基 板、以及由重叠层组成的抗反射薄膜,以下列顺序 在可透光基板上形成:一折射率1.6到2.4的透明介电 薄膜为第一层,一吸光薄膜为第二层,一折射率1.6 到2.4的透明介电薄膜为第三层,一吸光薄膜为第四 层,以及一折射率1.35到1.5的透明介电薄膜为第五 层。9.如申请专利范围第8项之具有抗反射涂层的 光学制品,其更进一步具有一折射率1.6到2.4的透明 介电薄膜作为第六层,介于作为第四层的吸光薄膜 与作为第五层的透明介电薄膜之间。10.如申请专 利范围第8项之具有抗反射涂层的光学制品,其中, 分别作为第一和第三层的透明介电薄膜之个别的 厚度为30到80nm,而作为第五层的透明介电薄膜的厚 度为60到100nm。11.如申请专利范围第9项之具有抗 反射涂层的光学制品,其中,作为第六层的透明介 电薄膜的厚度不超过100nm。12.如申请专利范围第8 项之具有抗反射涂层的光学制品,其中,吸光薄膜 个别为至少包含一种金属的薄膜,该金属是由钛、 铬、锆、钼、铁、铌、钽、铪、镍、镍-铁合金和 不锈钢所组成的群中选择出来的。13.如申请专利 范围第12项之具有抗反射涂层的光学制品,其中,吸 光薄膜个别的厚度为3到6nm。14.如申请专利范围第 12项之具有抗反射涂层的光学制品,其中,折射率1.6 到2.4的透明介电薄膜,至少一层为氧化铬的薄膜。 15.如申请专利范围第8项之具有抗反射涂层的光学 制品,其中,吸光薄膜个别为至少包含一种金属氮 化物的薄膜,该金属氮化物是由氮化钛、氮化铬、 氮化锆、氮化铪、和氮化钽所组成的群中选择出 来的。16.如申请专利范围第15项之具有抗反射涂 层的光学制品,其中,吸光薄膜个别的厚度为5到18nm 。17.如申请专利范围第1或8项之具有抗反射涂层 的光学制品,其中,可透光基板是一种玻璃基板。18 .如申请专利范围第17项之具有抗反射涂层的光学 制品,其中,可透光基板是用于阴极射线管之玻璃 制面板。19.如申请专利范围第17项之具有抗反射 涂层的光学制品,其中,可透光的玻璃基板包含一 种有色的成分,因而具有吸光的性质。20.一种阴极 射线管,其系使用如申请专利范围第1或8项之具有 抗反射涂层的光学制品。图式简单说明: 第一图是根据本发明的光学制品的具体例之剖面 图。 第二图是根据本发明的阴极射线管的具体例之表 面视图。 第三图是剖面图,描述根据本发明的光学制品的具 体例中,抗反射薄膜的多层结构。 第四图是描述重影原理的图。 第五图是描述玻璃基板的T1.Tint、和r1的图。 第六图是描述根据本发明的光学制品的R1.r2.和r3 的图。 第七图是光谱曲线图,分别显示用于实施例1中之 玻璃基板的内部透射比Tint和表面反射比r1。 第八图是光谱曲线图,分别显示在实施例1中得到 光学制品的透射比T2.其在抗反射薄膜面的表面反 射比r3.以及其在玻璃基板/抗反射薄膜界面的反射 比r2。 第九图是光谱曲线图,分别显示在实施例12中得到 光学制品的透射比T2.其在抗反射薄膜面的表面反 射比r3.以及其在玻璃基板/抗反射薄膜界面的反射 比r2。 |
