| 发明名称 | 一种基于金属局域化效应的光刻方法 | ||
| 摘要 | 一种基于金属局域化效应的光刻方法：(1)首先在玻璃表面制作金属结构；(2)将PDMS预聚物倾倒于金属结构表面，并在30℃-90℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固化的PDMS膜和金属结构从玻璃表面掀起，金属结构将嵌套于PDMS材料之中形成局域化光刻掩膜；(3)选择基底材料，并在基底表面涂覆光刻胶；(4)将PDMS局域化光刻掩模与基底表面的光刻胶紧密贴合；(5)采用垂直入射光照射光刻掩膜，曝光完成后，掀掉PDMS模板；(6)对光刻胶进行显影，最后形成需要的光刻线条。本发明可以制备出特征尺寸小于50nm的结构，且制作工艺简单，不需要采用复杂的设备，制作效率高。 | ||
| 申请公布号 | CN101126900B | 申请公布日期 | 2011.11.30 |
| 申请号 | CN200710121245.X | 申请日期 | 2007.08.31 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 罗先刚;董小春;杜春雷;魏兴战;邓启凌 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人 | 贾玉忠;卢纪 |
| 主权项 | 一种基于金属结构的表面等离子体局域化效应的光刻方法，其特征在于步骤如下：(1)首先在玻璃表面制作微纳金属结构；(2)将PDMS预聚物倾倒于微纳金属结构表面，并在30℃‑90℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固化的PDMS膜和微纳金属结构从玻璃表面掀起，微纳金属结构将嵌套于PDMS材料之中形成PDMS局域化光刻掩膜；(3)选择基底材料，并在基底表面涂覆光刻胶；(4)将PDMS局域化光刻掩膜与基底表面的光刻胶紧密贴合；(5)采用垂直入射光照射光刻掩膜，曝光完成后，掀掉PDMS局域化光刻掩膜；(6)对光刻胶进行显影，最后形成需要的光刻线条。 | ||
| 地址 | 610209 四川省双流350信箱 | ||