| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Qualitätskontrolle von Materialschichten (7), wobei die Oberfläche der Schicht mit elektromagnetischer Strahlung (8) bestrahlt wird und die Menge des von der Materialschicht ausgestrahlten Lichtes (9), beispielsweise Reflexionsstrahlung und/oder Fluoreszenzstrahlung, bestimmt wird, und wobei das Material der Schicht mit einem die Strahlung absorbierenden Stoff versehen wird.</p> |
