发明名称 | 磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机,它包括一个形状为圆形或方形的单室型真空室;一个设在真空室内的驱动车;一对设在真空室内的放、收卷辊;数对设在真空室内的磁控靶;放卷辊与收卷辊上卷绕有被镀基材,放卷辊与收卷辊间的被镀基材之间设有传动链条或带及多个导辊;在真空室内,被镀基材由放卷辊匀速通过每对靶的中间位置,连续传送到收卷辊上,这些靶溅射的金属材料沉积在基材上,形成附着牢固,厚度均匀的镍或其他金属薄膜。 | ||
申请公布号 | CN2434311Y | 申请公布日期 | 2001.06.13 |
申请号 | CN00246953.7 | 申请日期 | 2000.08.08 |
申请人 | 夏正勋 | 发明人 | 夏正勋 |
分类号 | C23C14/35;C23C14/56 | 主分类号 | C23C14/35 |
代理机构 | 甘肃省专利服务中心 | 代理人 | 徐筱梅 |
主权项 | 1、一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机,其特征在于它包括:一个形状为圆形或方形的单室型真空室(2);一个设在真空室(2)内的驱动车(5);一对设在真空室(2)内的放、收卷辊(3)、(4);数对设在真空室(2)内的磁控靶(9)。 | ||
地址 | 730050甘肃省兰州市龚家坪龚北路29号 |