发明名称 沈水式高溶氧曝气搅拌装置
摘要 本创作系提供一种沉水式高溶氧曝气搅拌装置,系用于一曝气槽内,系包括有:一座体,系固定在该曝气槽之底部,该座体适当位置设有一进气管,该进气管之一出气口系延伸出该座体之,而该进气管之一进气口系与一气泵连接,该座体至少具有一部份壁面系不与水平面平行;及一马达,系架设于一托架上,该马达面对该座体之一面设有一与该座体之出气口位置对应且受该马达驱动之扇叶;藉此,当该气泵作动使气体由该座体之出气口出气并形成向上冲向马达扇叶的气泡,气泡被该扇叶搅拌及切割为更小之气泡并且再向下推向该座体之壁面,再大范围地扩散反射至液体中扰动地上升,而使气体能曝充于更深及更广之污水中,达到使气泡更细、随着污水搅流、停留时间更久及溶氧率愈高之效果。
申请公布号 TW439554 申请公布日期 2001.06.07
申请号 TW088210085 申请日期 1999.06.17
申请人 黄深展 发明人 黄深展
分类号 B01F5/00;C02F3/14 主分类号 B01F5/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种沉水式高溶氧搅拌曝气装置,系用于一曝气 槽内,系包括有: 一座体,系固定在该曝气槽之底部,适当位置设有 一进气管,该进气管之一出气口系延伸出该座体中 央,而该进气管之一进气口系与一气泵连接,该座 体至少具有一部份壁面系不与水平面平行;及 一马达,系架设于一托架上,该马达藉由该托架与 座体间隔一预定之距离,该马达面对该座体之一面 设有一与该座体之出气口位置对应且受该马达驱 动这扇叶; 藉此,当该气泵作动使气体由该座体之出气口出气 并形成向上冲向该马达扇叶的气泡,气泡被该扇叶 搅拌及切割为更小之气泡并且再向下推向该座体 之壁面,再大范围地扩散反射至液体中扰动地上升 ,而使气体能曝充于更深及更广之污水中。2.如申 请专利范围第1项所述之沉水式高溶氧搅拌曝气装 置,其中该座体系为碟状,以使该座体之壁面与流 体方向具有不同反射角度的变化,以达气体能曝充 更广范围之废水。3.如申请专利范围第1项所述之 沉水式高溶氧搅拌曝气装置,其中该托架系卡置在 该座体上,该座体与该托架接触处设有一阶梯,使 该托架之底缘置放于该阶梯上,以达该托架稳固置 放于该座体上之效果。4.如申请专利范围第1项所 述之沉水式高溶氧搅拌曝气装置,其中该进气管之 出气口系设有一止逆阀,以避免污水回流入该进气 管中。5.如申请专利范围第1项所述之沉水式高溶 氧搅拌曝气装置,更包括数个由曝气槽之底部垂直 向上延伸且与托架之底缘接触之导杆,藉此,当该 托架之底缘与等导杆相互卡置,该马达藉由该等导 杆沿该扇叶与该出气口所延伸之垂直线平稳的下 降至与该座体间隔预定之距离,俾使维修方便。6. 如申请专利范围第5项所述之沉水式高溶氧搅拌曝 气装置,其中该托架之底缘与该等导杆接触的位置 处设有一与对应之导杆配合向内凹之凹口,使藉由 该等导杆及凹口之间配合,达到可滑移地夹置该托 架之底缘。7.如申请专利范围第6项所述之沉水式 高溶氧搅拌曝气装置,其中该座体与该托架之各该 凹口接触之处各设有一凹槽,以供容置各该凹口。 8.如申请专利范围第1项所述之沉水式高溶氧搅拌 曝气装置,其中该座体之底缘间隔凹设有数个组配 部,藉该等组配部使座体固定于该曝气槽之底部。 图式简单说明: 第一图系应用习知之散气式曝气装置之曝气槽之 示意图; 第二图系应用习知的机械搅拌式曝气装置之曝气 槽之示意图; 第三图系习知之自吸式曝气装置之示意图; 第四图系本创作之较佳实施例之示意图; 第五图系本创作之较佳实施例中座体之立体图; 第六图系本创作之较佳实施例中托架之立体图; 第七图系第四图沿切线A之切面示意图;及 第八图系本创作之较佳实施例之实施态样图;
地址 台北县新店市民权路七十七号三楼