发明名称 基板处理装置
摘要 本发明之目的是提供即使使室增多时专用面积亦不会增大之实用之基板处理装置。本发明之解决手段是在之分开室3之周围,使4个之装载锁定室2和8个之处理室101,102,103,104,105,106,107,108经由闸阀5气密式的连接,分别积层在2个位置,和可以利用各个排气系统301,201,100进行排气。分开室3内之搬运机构42从装载锁定室2取出基板9,以指定之顺序搬运到各个处理室101,102,103,104,105,106,107,108,然后回到装载锁定室2。各个装载锁定室2在其内部具有基板保持器22用来经常只将l片之基板9保持在相同之位置。
申请公布号 TW436892 申请公布日期 2001.05.28
申请号 TW088119019 申请日期 1999.11.02
申请人 安内华股份有限公司 发明人 高桥信行;小西晓夫
分类号 H01L21/08 主分类号 H01L21/08
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室;宿希成 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种基板处理装置,具备有:可排气之分开室,设在中央;可排气之装载锁定室和可排气之处理室,经由闸阀气密式的连接到分开室之侧面;和搬运机构,被设在分开室内和用来从装载锁定室中取出基板,以指定之顺序搬运到各个处理室,然后回到装载锁定室;其特征是:上述之装载锁定室和上述之处理室设有多个,积层在上述之分开室之周围之至少一个位置,和上述之装载锁定室在其内部具有基板保持器用来只保持一片之基板。2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述之基板保持器所具有之形状可以用来进行位置定位,藉以经常将基板保持在相同之位置。图式简单说明:第一图是本发明之第1实施形态之基板处理装置之平面概略图。第二图是第一图之A-A之剖面概略图。第三图是本发明之第2实施形态之基板处理装置之平面概略图。第四图是第三图之B-B之剖面概略图。第五图是本发明之第3实施形态之基板处理装置之平面概略图。第六图是第五图之C-C之侧面剖面概略图。第七图是作为习知之基板处理装置之一实例之群集工具型之基板处理装置之平面概略图。
地址 日本
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