发明名称 废气处理装置及方法
摘要 本发明系提供一种废气处理装置及方法,适用于处理含有次微米微粒以及酸性气体的废气,主要是藉由一湿式涤气装置,将废气及雾化装置产生之洗涤液水滴经加速装置加速混合后导入一涤气槽中,藉由惯性作用,可将随气流下冲之次微米微粒于槽底之液面而去除,其余的微粒则藉由一气体抽出装置将涤气槽中的气流抽出,而在随气流反折向上的途中藉由此时持续由涤气槽上方流入之水滴发挥涤除(wash out)效果,而能进一步降低气流中微粒浓度,可达到90%以上的次微米微粒控制。此外因本案系采湿式涤气程序,亦可将气流中水溶性之酸性气体一并去除,而达到控制效果。
申请公布号 TW434039 申请公布日期 2001.05.16
申请号 TW089111251 申请日期 2000.06.09
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 周崇光;林紫岚
分类号 B01D53/34 主分类号 B01D53/34
代理机构 代理人
主权项 1.一种废气处理装置,适用于藉由洗涤液来处理废气,该废气处理装置包括:一雾化装置,具有第一入气口,第一出气口以及喷雾元件,且经由该喷雾元件将该洗涤液雾化成水滴而喷至该废气,进而由该第一出气口流出;一加速光装置,具有第二入气口及第二出气口,且该第二入气口连结于该第一出气口,用已将由该第二入气口流入的该等水滴以及废气予以加速,而由该第二出气口流出;一涤气槽,用以收容该洗涤液,且具有第三入气口、第三出气口及液体出口,而该第三入气口连结于该第二出气口,用以将由该第三入气口流入的该等水滴及废气予以撞及该洗涤液,且该第三出气口位于该涤气槽的上方;以及一气体抽出装置,连接于该第三出气口,用以使该涤气槽中的气流反折向上经由该第三出气口流出该涤气槽。2.如申请专利范围第1项所述之废气处理装置,更包括一洗涤液回收装置,连接该液体出口及该雾化装置,用以回收该洗涤液。3.如申请专利范围第1.2项所述之废气处理装置,其中该加速装置为文式管(Venturi meter)。4.如申请专利范围第3项所述之废气处理装置,其中该加速装置之文式管更包括差压计。5.一种废气处理方法,适用于藉由洗涤液来处理废气,该废气处理方法包括:使该洗涤液雾化成水滴,而喷至该废气;使该水滴及废气加速,而予以撞及该洗涤液;进而使该废气反折向上流出。6.如申请专利范围第5项所述之废气处理方法,其中使该水滴及废气予以撞及该洗涤液之步骤所产生之惯性冲击是藉由调整进出涤气槽之流体速度与方向以及槽内洗涤液之液面高度,使气流向下运动的深度可达液面,使微粒与液面发生碰撞。7.如申请专利范围第5项所述之废气处理方法,其中使该废气反转流出是藉由调整加速水滴及废气进出涤气槽之速度与方法以及槽内洗涤液之液面高度,使气流向下运动之深度可达液面,再藉由气体抽出装置之抽气作用使气流反折向上。8.如申请专利范围第5项所述之废气处理方法,其中该废气流向反转后,次微米微粒随气流向上流动,此时藉由水滴之洗除作用而与自上而下之水滴发生碰撞而产生刷洗的效果,因此去除气体中多数的次微米微粒。图式简单说明:第一图系显示典型半导体制程之尾气的微粒粒径分布。第二图系为根据本发明之废气处理装置之实施例的装置示意图。第三图系显示根据本发明之废气处理装置所处理之盐酸体控制效率的测试结果。第四图系显示根据本发明之废气处理装置所处理之次微米微粒控制效率之测试结果。
地址 新竹县竹东镇中兴路四段一九五号