| 主权项 |
1.一种用以制造液晶体显示器之方法,其包含的步骤为:将一铟锡氧化层(ITO)沉积在一玻璃基层上;将一光阻涂覆在该ITO层上;使用一铬光罩曝光该光阻之一部分;发展该光阻以移除该光阻的曝光部分或是该感光层的未曝光部分之一,以使一光阻图型被形成在该ITO层上;藉由使用一ITO蚀刻器来形成该ITO层以具有与该光阻图型相同之图型,且藉此形成侧边在该光阻图型所保护之ITO层上;藉由第一及第二无电式电镀而形成第一及第二金属层于该光阻图型所保护之该ITO层的侧边上;及移除该光阻图型。2.依据申请专利范围第1项的方法,其中该第一无电式电镀是由使用镍来实行且该第二无电式电镀是由使用金来实行。3.依据申请专利范围第1项的方法,其中该第一金属层包含镍,而该第二金属层包含从由铝、镍与铝、及镍与金组成之组群中选出之金属与合金。4.依据申请专利范围第3项的方法,其中该第一金属层及该第二金属层分别是0.05至3微米厚之镍及铝。5.依据申请专利范围第1项的方法,其中该第一及第二金属层形成为至少如该ITO层一样厚。6.依据申请专利范围第5项的方法,其中该第一及第二金属层被形成来覆盖各该剩余的ITO层的蚀刻表面之一角。7.一种用以制造液晶显示器之方法,其包含的步骤为:将一铟锡氧化层(ITO)沉积在一玻璃基层上;将一光阻层施加于该ITO玻璃基层上;使用一铬光罩曝光该光阻层以形成一光阻图型;发展该光阻以曝光该ITO层之一部分;蚀刻该ITO层之曝光的部分且藉此形成侧边于该ITO层上;藉由第一及第二无电式电镀来形成第一及第二金属层于该ITO层之该等侧边上;及移除该光阻。8.依据申请专利范围第7项的方法,其中该第一无电式电镀是由使用镍来实行且该第二无电式电镀是由使用金来实行。9.依据申请专利范围第7项的方法,其中该第一金属层及该第二金属层分别是0.05至3微米厚之镍及铝。10.依据申请专利范围第7项的方法,其中该第一及第二金属层形成为至少如该ITO层一样厚。11.依据申请专利范围第10项的方法,其中该第一及第二金属层被形成来覆盖各该剩余的ITO层的蚀刻表面之一角。12.依据申请专利范围第7项的方法,其中该第一金属层包含镍,而该第二金属层包含从由铝、镍与铝、及镍与金组成之组群中选出之金属与合金。图式简单说明:第一图(A)和第一图(B)分别是先前技术中一种液晶显示的ITO样型构造的平面图和截面图。第二图(A)是本发明中液晶显示器的ITO样型构造之平面图且第二图(B)及第二图(C)是其截面图。 |
