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发明名称 DC SPUTTERING PROCESS FOR MAKING SMOOTH ELECTRODES AND THIN FILM FERROELECTRIC CAPACITORS HAVING IMPROVED MEMORY RETENTION
摘要
申请公布号 EP1099242(A1) 申请公布日期 2001.05.16
申请号 EP19990957658 申请日期 1999.06.28
申请人 MATSUSHITA ELECTRONICS CORPORATION 发明人 HAYASHI, SHINICHIRO;ARITA, KOJI
分类号 C23C14/34;C23C14/08;H01L21/02;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/8246;H01L27/105;(IPC1-7):H01L21/02;H01L21/320;H01L27/115 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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