| 发明名称 |
METHOD FOR ANISOTROPIC PLASMA ETCHING OF SEMICONDUCTORS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1095401(A1) |
申请公布日期 |
2001.05.02 |
| 申请号 |
EP20000931030 |
申请日期 |
2000.04.26 |
| 申请人 |
ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
LAERMER, FRANZ;SCHILP, ANDREA |
| 分类号 |
H05H1/46;B01J19/08;B81C1/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/66 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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