摘要 |
<p>Bei einer Vorrichtung und einem Verfahren zum Bestimmen eines Winkels (Θ), unter dem eine Strahlung auf eine Referenzebene (104) auftrifft, wird zunächst mittels einer ersten Sensoreinrichtung, die bezüglich der Referenzebene unter einem ersten Winkel angeordnet ist, und auf die die Strahlung unter einem ersten Einfallswinkel auftrifft, abhängig von diesem Einfallswinkel ein erstes Intensitätssignal (I1) erzeugt. Mittels einer zweiten Sensoreinrichtung (110), die bezüglich der Referenzebene unter einem zweiten Winkel angeordnet ist, und auf die die Strahlung unter einem zweiten Einfallswinkel (α2) auftrifft, wird abhängig von diesem zweiten Einfallswinkel ein zweites Intensitätssignal (I2) erzeugt. In einer Auswertungseinrichtung (220) wird der Winkel (Θ), unter dem die Strahlung (102) auf die Referenzebene (104; 204) auftrifft, abhängig von dem ersten Winkel (α1), dem ersten Intensitätssignal (I1), und dem zweiten Winkel (α2) und dem zweiten Intensitätssignal (I2) bestimmt. <IMAGE></p> |