| 发明名称 |
PROCESS FOR POLISHING DISSIMILAR CONDUCTIVE LAYERS IN A SEMICONDUCTOR DEIVCE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG79962(A1) |
申请公布日期 |
2001.04.17 |
| 申请号 |
SG19980000501 |
申请日期 |
1998.03.06 |
| 申请人 |
MOTOROLA INC |
发明人 |
RAJEEV BAJAJ;JANOS FARKAS;KIM SUNG C;JAIME SARAVIA |
| 分类号 |
H01L21/304;H01L21/321;(IPC1-7):H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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