发明名称 面光源装置(三)
摘要 本创作之面光源装置为由:一直线状之光源;一将入射端面靠近前述光源而配置的导光体;一设于前述导光体表面侧的扩散板;一设于前述导光体背面侧的反射板;如此所成之面光源装置中,其特征为于前述导光体的背面具有以具扩散作用的部份所形成的图案,前述图案为以多数微小面积的具有扩散作用的部分所形成,前述具有扩散作用的部分为,在面积上入射端面侧为最疏而自入射端面朝着反射面则逐渐变密再进一步演变成疏,由入射端面及形成反射面端面之中间点,至少在形成反射面之端面侧有最密处存在。
申请公布号 TW277724 申请公布日期 1996.06.01
申请号 TW082205335 申请日期 1991.03.11
申请人 恩普拉斯股份有限公司 发明人 横山和明
分类号 F21V8/00;G02F1/1335;G06F9/00 主分类号 F21V8/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1. 一种面光源装置,其为由:一直线状之光源,一将 入 射端面靠近于前述光源而配置的导光体;一设于前 述导光 体表面侧的扩散板;一设于前述导光体背面侧的反 射板; 及形成于与前述导光体之入射端面相反的端面的 反射面, 如此所成之面光源装置中,其特征为于前述导光体 的背面 具有扩散作用的部分所形成的图案,前述图案为以 多数微 小面积的具有扩散作用的部分所形成,前述具有扩 散作用 的部分为,在面积上入射端面侧为最疏而自入射端 面朝着 反射面则逐渐变密再进一步演变成疏者,由入射端 面及形 成反射面端面之中间点,至少在形成反射面之端面 侧有最 密处存在。2. 如申请专利范围第1项所述之面光源 装置,其中前述图 案具有扩散作用的部分分别为图形者。3. 如申请 专利范围第1项所述之面光源装置,其中前述图 案具有扩散作用的部分分别为椭圆形者。4. 如申 请专利范围第1项所述之面光源装置,其中前述图 案具有扩散作用的部分分别为四方形者。图示简 单说明: 第1图为习知面光源装置之剖面图, 第2图至第4图为习知面光源装置所使用之图案图, 第5图,第6图为表示其他习知之面光源装置的图, 第7图为表示第5图,第6图所示的习知例之亮度分布 的图 , 第8图为本创作之面光源装置第1实施例的剖面图, 第9图为上述实施例之部分扩大剖面图, 第10图至第11图为分别表示本创作第2实施例至第3 实施例
地址 日本