| 发明名称 |
Vorrichtung und Verfahren zum Ebenhalten eines Substrats in der Mikrolithographie |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE19882796(T1) |
申请公布日期 |
2001.03.22 |
| 申请号 |
DE19981082796T |
申请日期 |
1998.11.13 |
| 申请人 |
MICRONIC LASER SYSTEMS AB, GOETEBORG |
发明人 |
SANDSTROEM, TORBJOERN |
| 分类号 |
G03F1/14;G03F7/20;G09F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20;G03F1/00;G09F9/35 |
主分类号 |
G03F1/14 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
