| 主权项 |
1.一种光罩,系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区。2.一种图案曝光方法,系包括有:(a)准备2N倍光罩,该2N倍光罩系在2N倍曝光用图板区域中,至少设置一2N倍放大光罩图案区,并在该2N倍放大光罩图案区外侧边设有2N倍测试键图案区;(b)准备N倍光罩,该N倍光罩系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且未与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区;(c)准备一待曝光用晶圆,该晶圆外围设定出覆盖该晶圆表面全区域的大曝光区,该大曝光区并分割呈行列式分布的复数个小曝光区;(d)准备一曝光用步进机;(e)利用该曝光用步进机,依序将该2N倍光罩上的2N倍放大光罩图案区及2N倍测试键图案区,同时曝光于该等小曝光区中,形成同时具备2N倍测试缩影图案及2N倍缩影图案的复数个带键缩影图案区;(f)遮蔽该2N倍测试键图案区,利用该曝光用步进机仅将该2N倍放大光罩图案区曝光在紧邻该等带键缩影图案区下方,俾形成复数个仅具备2N倍缩影图案的未带键缩影图案区;(g)利用该曝光用步进机,将该N倍光罩上的该等N倍放大光罩图案区及N倍测试键图案区,于一次曝光中同时投影于该等小曝光区上,使该等N倍放大光罩图案区的投影重叠于各自相对应的该等2N倍缩影图案,而该等N倍测试键图案区的投影重叠于各自相对应应该等2N倍测试缩影图案上。3.一种图案曝光方法,系包括有:(a)准备2N倍光罩,该2N倍光罩系在2N倍曝光用图板区域中,至少设置一2N倍放大光罩图案区,并在该2N倍放大光罩图案区外侧边设有2N倍测试键图案区;(b)准备N倍光罩,该N倍光罩系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且未与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区;(c)准备一待曝光用晶圆,该晶圆外围设定出覆盖该晶圆表面全区域的大曝光区,该大曝光区并分割呈行列式分布的复数个小曝光区;(d)准备一曝光用步进机;(e)利用该曝光用步进机,相隔一列小曝光区间距,将该2N倍光罩上的2N倍放大光罩图案区及2N倍测试键图案区依序同时曝光在该等小曝光区中,而形成间隔一列小曝光区距离之水平条状排列同时具备2N倍测试缩影图案及2N倍缩影图案的复数个带键缩影图案区;(f)遮蔽该2N倍光罩的该2N测试键图案区,利用该曝光用步进机,将该2N倍放大光罩图案区曝光在紧邻该等带键缩影图案区下方,形成水平条状排列仅具备2N倍缩影图案的复数个未带键缩影图案区;(g)利用该曝光用步进机,依序将该N倍光罩沿水平方向移动施行曝光程序,于一次曝光中同时将该N倍光罩上的N倍放大光罩图案区及N倍测试键图案区,投影于该等带键缩影图案及未带键缩影图案区上,使该等N倍放大光罩图案区的投影重叠于各自相对应的该等2N倍缩影图案,而该等N倍测试键图案区的投影重叠于各自相对应该等2N倍测试缩影图案上。4.一种图案曝光方法,系包括有:(a)准备2N倍光罩,该2N倍光罩系在2N倍曝光用图板区域中,至少设置一2N倍放大光罩图案区,并在该2N倍放大光罩图案区外侧边设有2N倍测试键图案区;(b)准备N倍光罩,该N倍光罩系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且未与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区;(c)准备一待曝光用晶圆,该晶圆外围设定出覆盖该晶圆表面全区域的大曝光区,该大曝光区并分割呈行列式分布的复数个小曝光区;(d)准备一曝光用步进机;(e)利用该曝光用步进机,相隔一列小曝光区间距,将该2N倍光罩上的2N倍放大光罩图案区及2N倍测试键图案区依序同时曝光在该等小曝光区上,而形成间隔一列小曝光区距离之水平条状排列同时具备2N倍测试缩影图案及2N倍缩影图案的复数个带缩键影图案区;(f)遮蔽该2N倍光罩的该2N倍测试键图案区,利用该曝光用步进机,将该2N倍放大光罩图案区曝光于紧邻该等带键缩影图案区下方,形成水平条状排列仅具备2N倍缩影图案的复数个未带键缩影图案,并在各该未带键缩影图案区与相对应下一列该带键缩影图案区间形成水平条状排列的复数空白区;(g)遮蔽该2N倍光罩的该2N倍放大光罩图案区,仅将该2N倍测试键图案区,利用该曝光用步进机依序曝光于该等空白区上;(h)使用该曝光用步进机,依序将该N倍光罩沿水平方向移动施行曝光程序,于一次曝光程序中同时将该N倍光罩上的N倍放大光罩图案区及N倍测试图案区,分别投影于等带键缩影图案区及未带键缩影图案区上,使该等N倍放大光罩图案区的投影重叠于各自相对应的该等2N倍缩影图案,而该等N倍测试键图区的投影重叠于各自相对应该2N倍测试缩影图案上;(i)遮蔽该N倍光罩的该N倍放大光罩图案区,仅将该N倍测试键图案区,利用该曝光用步进机依序曝光于该等空白区上。5.一种图案曝光方法,系包括有:(a)准备2N倍光罩,该2N倍光罩系在2N倍曝光用图板区域中,至少设置一2N倍放大光罩图案区,并在该2N倍放大光罩图案区外侧边设有2N倍测试键图案区;(b)准备N倍光罩,该N倍光罩系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且未与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区;(c)准备一待曝光用晶圆,该晶圆外围设定出覆盖该晶圆表面全区域的大曝光区,该大曝光区并分割呈行列式分布的复数个小曝光区,并在该等小曝光区中,任意选择一或一以上小曝光区设定为测试区,而将其余的该等小曝光区设定为制造区;(d)准备一曝光用步进机;其中,在该测试区中,遮蔽该2N倍光罩的2N倍放大光罩图案区,利用曝光用步进机,仅曝光该2N倍测试键图案区于该测试区中,形成一或一以上的2N倍测试缩影图案,然后遮蔽N倍光罩的N倍放大光罩图案区,利用曝光用步进机,仅曝光该N倍测试键图案区于该测试区中的该等2N倍测试缩影图案上;而在该等制造区中,则遮蔽该2N倍光罩的2N倍测试键图案区,利用曝光用步进机,依序仅曝光该2N倍放大光罩图案区于各该等制造区中,形成一或一以上的2N倍缩影影图案区,然后遮蔽N倍光罩的N倍测试键图案区,利用曝光用步进机,仅曝光该N倍放大光罩图案区于各该等制造区中的该等2N倍缩影图案上,形成复数个N倍缩影图案,并使该等N倍缩影影图案区与各该等2N倍缩影影图案区呈各自对应方式重叠。6.一种图案曝光方法,系包括有:(a)准备2N倍光罩,该2N倍光罩系在2N倍曝光用图板区域中,至少设置一2N倍放大光罩图案区,并在该2N倍放大光罩图案区外侧边设有2N倍测试键图案区;(b)准备N倍光罩,该N倍光罩系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且未与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区;(c)准备一待曝光用晶圆,该晶圆外围设定出覆盖该晶圆表面全区域的大曝光区,该大曝光区并分割呈行列式分布的复数个小曝光区;(d)准备一曝光用步进机;(e)遮蔽该2N倍光罩的2N倍测试键图案区,利用该曝光用步进机,将该2N倍光罩的该2N倍放大光罩图案区依序曝光于该等小曝光区中,而形成复数2N倍缩影图案;(f)遮蔽该N倍光罩的N倍测试键图案区,使用该曝光用步进机,将该N倍光罩的该等N倍放大光罩图案区在一次曝光中,同时曝光于该等小曝光区,形成复数个N倍缩影图案,并使该等N倍缩影图案各自重叠于相对应的该等2N倍缩影图案上。7.一种图案曝光方法,系包括有:(a)准备N倍光罩,该N倍光罩系在N倍曝光用图板区域中,设置呈行列式排列的复数个N倍放大光罩图案区,并在至少其中一个排列于行列式外围且未与其他该等N倍放大光罩图案区相邻的侧边上设置有一N倍测试键图案区;(b)准备一待曝光用晶圆,该晶圆外围设定出覆盖该晶圆表面全区域的大曝光区,该大曝光区并分割呈行列式分布的复数个小曝光区;(c)准备一曝光用步进机;(d)使用该曝光用步进机,将该N倍光罩在一次曝光中,同时曝光于该等小曝光区。8.如申请专利范围第7项所述图案曝光方法,其中,在该N倍光罩进行曝光时,系遮蔽该N倍测试键图案区进行曝光者。9.如申请专利范围第7项所述图案曝光方法,其中,在该N倍光罩进行曝光时,系遮蔽该N倍放大光罩图案区进行曝光者。图式简单说明:第一图系习知2N倍光罩示意图;第二图系习知N倍光罩示意图;第三图A、第三图B系采用第一图及第二图所示习知光罩进行曝光的投影图案分布示意图;第四图系本发明较佳实施例之N倍光罩示意图;第五图系配合本发明实施所采用的2N倍光罩示意图;第六图系实施例一中采用本发明所提供N倍光罩进行曝光的投影图案分布示意图;第七图系实施例二中采用本发明所提供N倍光罩进行曝光的投影图案分布示意图;第八图系实施例三中采用本发明所提供N倍光罩进行曝光的投影图案分布示意图;第九图系实施例四中采用本发明所提供N倍光罩进行曝光的投影图案分布示意图;以及第十图系实施例五中采用本发明所提供N倍光罩进行曝光的投影图案分布示意图。 |
