发明名称 硅锗晶体
摘要 提供作为温差电器件的性能指数得到改善和加工性优良、不会发生使用中的特性劣化或裂缝的SiGe材料。构成晶体的晶粒的大小在5×10<SUP>-5</SUP>mm<SUP>3</SUP>以上。
申请公布号 CN1288443A 申请公布日期 2001.03.21
申请号 CN99802262.4 申请日期 1999.11.05
申请人 信越半导体株式会社 发明人 阿部孝夫;米永一郎;五十岚哲也
分类号 C01B33/06;C30B29/10;C30B15/00;H01L35/14 主分类号 C01B33/06
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邰红;杨丽琴
主权项 权利要求书1.一种SixGe1-x(0<x<1)晶体,其特征在于:构成晶体的晶粒的大小在5×10-5mm3以上。
地址 日本东京都