发明名称 垂直腔面发射微腔激光器
摘要 本实用新型属于光电子技术领域,是一种垂直腔面发射的激光器。本实用新型的量子阱有源层4的上面是P型半导体分布布拉格反射镜3和金属电极1之间有一P<SUB>-</SUB><SUP>+</SUP>欧姆接触层2。金属电极1、P<SUB>-</SUB><SUP>+</SUP>欧姆接触层2、量子阱有源层4、P型半导体分布布拉格反射镜3和n型半导体分布布拉格反射镜6的上部构成圆柱形结构。n型半导体分布布拉格反射镜6的下部截面大于圆柱的截面,并在其上制有下金属电极5。n型半导体分布布拉格反射镜6的下面为半导体衬底7。本实用新型具有阀值电流低,光限制好等优点。
申请公布号 CN2422763Y 申请公布日期 2001.03.07
申请号 CN99253156.X 申请日期 1999.11.12
申请人 中国科学院长春物理研究所 发明人 宁永强;刘云;刘星元;王立军;武胜利;吴东江;赵家民;潘玉寨;索辉;曹昌盛
分类号 H01S5/00 主分类号 H01S5/00
代理机构 中国科学院长春专利事务所 代理人 李恩庆
主权项 1、一种垂直腔面发射微腔激光器,包括金属电极(1),下金属电极(5),量子阱有源层(4),P+欧姆接触层(2),P型半导体分布布拉格反射镜(3),n型半导体分布布拉格反射镜(6),及半导体衬底(7),其特征是量子阱有源层(4)的上面是P型半导体分布布拉格反射镜(3),下面是n型半导体分布布拉格反射镜(6),在金属电极(1)和P型半导体分布布拉格反射镜(6)上部和量子阱有源层(4),P型半导体分布布拉格反射镜(3),P+-欧姆接触层(2)等构成圆柱形结构;在n型半导体分布布拉格反射镜(6)的下部上面有下金属电极(5)。
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