发明名称 钻石碟片预处理装置
摘要 本创作揭露一种单键操作之钻石碟片预处理装置,用以离线预处理钻石碟片,其至少包含碟片固定装置,以固定一钻石碟片;第一转动装置,用以转动该碟片固定装置以带动该钻石碟片的旋转;平台,其上置有一磨盘以磨合该钻石碟片;递送装置,用以使该钻石碟片与该磨盘接触或远离;第二转动装置,用以转动该平台以带动该研磨垫的旋转;支架,用以承载或固定上述元件;至少一个喷洒装置,用以喷洒磨合液于该平台;控制单元,用以设定一磨合时间、控制第一转动装置以及第二转动装置的旋转与否、转速以及转动方向。
申请公布号 TW424619 申请公布日期 2001.03.01
申请号 TW088222079 申请日期 1999.12.24
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 彭至亿;林俞良
分类号 B24B7/24;B24B37/04;H01L21/304 主分类号 B24B7/24
代理机构 代理人 蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种单键操作之钻石碟片预处理装置,用以离线( offline)预处理钻石碟片,该装置至少包含下列元件: 碟片固定装置(holder),用以固定一钻石碟片; 第一转动装置,耦合于碟片固定装置,用以转动碟 片固定装置以带动该钻石碟片的旋转; 平台,该平台上置有一磨盘,该磨盘用以磨合(break- in)该钻石碟片; 递送装置,用以使该钻石碟片与该磨盘接触或远离 ,该递送装置具有一连杆; 第二转动装置,耦合于该平台,用以转转该平台以 带动该研磨垫的旋转; 支架,用以承载或固定该碟片固定装置、该第一转 动装置、该递送装置以及该第二转动装置; 至少一个喷洒装置、用以喷酒磨合液于该平台,该 磨合液指该钻石碟片磨合时所需的液体,该喷洒装 置具有一阀门及一磨合液源,当该阀门开启时,该 磨合液可自该磨合液源喷洒至该平台,当该阀关关 闭时,该磨合液被阻断而无法喷洒至该平台;及 控制单元,至少包含下列元件: 计时器(timer),用以设定以及计算一磨合时间,该计 时器具有一按键,当按下该键之时,该计时器开始 计算该磨合时间,并且该钻石碟片与该磨盘藉由该 递送装置产生接触,当该磨合时间终了时,该钻石 碟片藉由该递送装置远离该磨盘; 第一驱动装置,偶合于计时器与该第一转动装置之 间,该第一驱动装置系用以控制第一转动装置的旋 转与否、转速以及转动方向,当按下该按键之后, 该第一动装置因应于该计时器而转动、以带动该 钻石碟片的旋转,当该磨合时间终了时,该第一驱 动装置因应于该计时器而停止该第一转动装置的 转动; 第二驱动装置,偶合于该计时器与该第二转动装置 之间,该第二驱动装置用以控制该第二转动装置的 旋转、转带以及转动方向,当按下该按键之后,该 第二转动装置亦因应于计时器而转动,以带动该磨 盘的旋转,当该磨合时间终了时,该第二驱动装置 因应于该计时器而停止该第二转动装置的转动。2 .如申请专利范围第1项之装置,其中上述控制单元 更包含下列元件: 气压源,用以提供上述递送装置气压; 常关闭(normally COLSE valve),耦合于上述气压源与上 述递送装置以及上述喷洒装置之间,并且该开阀因 应于上述计时器而开启或关闭,当按下上述按键之 后,该常关闭开启,以上述气压推动上述连杆伸长 而使上述钻石碟片与上述磨盘接触以进行磨合,上 述气压并开启上述喷洒装置之上述阀门,使上述磨 合液源喷洒上述磨合液至该平台,当上述磨合时间 终了时,该常关阀关闭; 气压散逸装置,用以散逸上述气压; 常开阀(normally OPEN valve),耦合于该气压散逸装置与 上述递送装置以及上述喷洒装置之间,并且该常开 阀因应于上述计时器而开启或关闭,当上述合时间 终了时,该常开阀开启以散逸上述气压,使上述连 杆轴缩短以使上述钻石碟片远离上述磨盘,同时该 阀门关闭以使该喷洒装置停止喷洒该磨合液,当按 下上述按键时,该常开阀关闭。3.如申请专利范围 第1项之装置,其中上述碟片固定装置系藉由螺丝 固定上述钻石碟片。4.如申请专利范围第1项之装 置,其中上述平台更包含至少一个排水孔,用以排 出上述研磨液。5.如申请专利范围第1项之装置,其 中上述控制单元更包含一开关(break),一外部电源 藉由该开关耦合至该计时器。6.如申请专利范围 第1项之装置,其中上述控制单元更包含一灯显示 器,该灯号显示器因应于上述计时器,当上述磨合 时间终了时,灯号显示器熄灭以提醒使用者。7.如 申请专利范围第1项之装置,其中上述第一转动装 置至少包含一直流马达。8.如申请专利范围第1项 之装置,其中上述第二转动装置至少包含一直流马 达。9.如申请专利范围第1项之装置,其中上述递送 装置至少包含cylinder。10.如申请专利范围第1项之 装置,其中上述磨合液至少包含去离子水(DI)以及 研浆(slurry)。11.如申请专利范围第1项之装置,其中 上述气压源可设定气压,以调整上述钻石碟片与上 述磨盘接触所产生的压力。12.如申请专利范围第1 项之装置,其中上述气压散逸装置至少包含真空帮 浦。13.一种单键操作之钻石碟片预处理装置,用以 离线(offline)预处理钻石碟片,该装置至少包含下列 元件: 碟片固定装置(holder),用以固定一钻石碟片。 第一转动装置,耦合于该碟片固定装置,用以转动 该碟片固定装置以带动该钻石碟片的旋转。 平台,该平台上置有一磨盘,该磨盘用以磨合(break- in)该钻石碟片; 递送装置,具有一连杆,该连杆伸长时,该钻石碟片 可与该磨盘产生接触,该连杆缩短时,该钻石碟片 可远离该磨盘。 第二转动装置,耦合于该平台,用以转动该平台以 带动该研磨垫的旋转; 支架,用以承载或固定该碟片固定装置、该第一转 动装置、该递送装置以及该第二转动装置; 至少一个喷洒装置,用以喷洒磨合液于该平台,该 磨合液系指该钻石碟片磨合时所需的液体,该喷洒 装置具有一阀门及一磨合液源,当该阀门开启时, 该磨合液可自该磨合液源喷洒至该平台,当该阀门 关闭时,该磨合液被阴断而无法喷洒至该平台。 控制单元,至少包含下列元件: 计时器(timer),用以设定以及计算一磨合时间,并且 该计时器具有一按键,当按下按键之后,该计时开 始计算该磨合时间; 第一驱动装置,偶合于该计时器与该第一转动装置 之间,该第一驱动装置用以控制该第一转动装置的 旋转与否、转速以及转动方向,当按下该按键之后 ,该第一转动装置因应于计时而转动,以带动该钻 石碟片的旋转,当该磨合时间终了时,该第一驱动 装置因应于计时器而停止该第一转动装置的转动; 第二驱动装置,偶合于计时器与该第二转动装置之 间,该第二驱动装置用以控制该第二转动装置的旋 转、转速以及转动方向,当按下该按键之后,该第 二转动装置亦因应于该计时器而转动,以带动该磨 盘的旋转,当该磨合时间终了时,该第二驱动装置 应因于计时器而停止该第二转动装置的转动; 气压源,用以提供递送装置气压; 常关阀(normally CLOSE valve),耦合于气压源与该递送 装置以及该喷洒装置之间,并且该常关阀因应于该 计时器而开启或关闭,当按下该按键之后,该常关 阀开启,以该气压带动该连杆伸长而使该钻石碟片 与该磨盘接触以进行综合,该气压并开启喷洒装置 之该阀门,使该磨合液源喷洒该磨合液至该平台, 当该磨合时间终了时,该常关阀关闭,使该磨合液 源被阻断而无法喷洒该磨合液至该平台; 气压散逸装置,用以散逸气压; 常开阀(normally OPEN valve),耦合于该气压散逸装置与 递送装置以及喷洒装置之间,并且该常开阀因应于 计时器而开启或关闭,当该磨合时间终了时,该常 开阀开启以散逸该气压,同时该阀门关闭以使该喷 洒装置停止喷洒磨合液,并且使该连杆缩以使该钻 石碟片远离该磨盘,当按下该键被时,该常开阀关 闭。14.如申请专利范围第13项之装置,其中上述碟 片固定装置系藉由螺丝固定上述钻石碟片。15.如 申请专利范围第13项之装置,其中上述平台更包含 至少一个排水孔,用以排出上述研发液。16.如申请 专利范围第13项之装置,其中上述控制单元更包含 一开关(break),一外部电源藉由该开关耦合至该计 时器。17.如申请专利范围第13项之装置,其中上述 控制单元更包含一灯显示器,该灯号显示器因应于 上述计时器,当上述磨合时间终了时,灯号显示器 熄灭以提醒使用者。18.如申请专利范围第13项之 装置,其中上述第一转动装置至少包含一直流马达 。19.如申请专利范围第13项之装置,其中上述第二 转动装置至少包含一直流马达。20.如申请专利范 围第13项之装置,其中上述递送装置至少包含一 cylinder。21.如申请专利范围第13项之装置,其中上 述磨合液至少包含去离子水(DI)以及研浆(slurry)。 22.如申请专利范围第13项之装置,其中上述气压源 可设定气压,以调整上述钻石碟片与上述磨盘接触 所产生的压力。23.如申请专利范围第13项之装置, 其中上述气压散逸装置至少包含真空帮浦。图式 简单说明: 第一图系化学机械研磨装置研磨晶圆之示意图。 第二图系以钻石碟片对研磨垫进行起始化之示意 图。 第三图系一示意图,以说明本创作所包含之元件以 及其相互间的连结关系。
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