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发明名称 CENTRAL COIL DESIGN FOR IONIZED METAL PLASMA DEPOSITION
摘要
申请公布号 KR20010012640(A) 申请公布日期 2001.02.26
申请号 KR19997010601 申请日期 1999.11.16
申请人 null, null 发明人 홍,류보;왕,호우공;야오,공다;슈,쳉
分类号 H05H1/46;C23C14/34;C23C14/40;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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