| 发明名称 | 用来对碟片进行热处理的方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种用来对碟片进行热处理的方法和装置,在此方法中,先将碟片放置在一载体(14)上然后对碟片(1)进行照射。在照射过程中,将所述载体保持在一所需温度。所述载体的所需温度大约是所述碟片在被放置在所述载体上之前的温度。所述碟片包括两个碟片构件和位于所述两碟片构件之间的粘结层,利用紫外光照射使所述粘结层固化。 | ||
| 申请公布号 | CN1284908A | 申请公布日期 | 2001.02.21 |
| 申请号 | CN98813820.4 | 申请日期 | 1998.02.27 |
| 申请人 | 奥德梅国际有限公司 | 发明人 | L·G·M·白令;R·T·N·卡尔松;C·L·埃里克松;L·G·埃里克松;P·O·厄曼 |
| 分类号 | B29C35/08;G11B7/26 | 主分类号 | B29C35/08 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 闻卿 |
| 主权项 | 1．一种用来对碟片进行热处理的方法，此法是先将碟片放置在一载体上，然后对所述碟片进行照射，其特征在于，在照射过程中，将所述载体保持在一所需温度上。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||