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发明名称
Method of manufacturing semi-conductor memory device using two etching patterns
摘要
申请公布号
US6184145(B2)
申请公布日期
2001.02.06
申请号
US09/306802
申请日期
1999.05.07
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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